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《偏压、靶电流对多弧离子镀制备TiN-TiAlN复合膜组织形貌及性能的影响》

偏压、靶电流对多弧离子镀制备TiN-TiAlN复合膜组织形貌及性能的影响一、引言

多弧离子镀技术是一种重要的薄膜制备技术，广泛应用于制备各种功能性薄膜材料。在多弧离子镀过程中，偏压和靶电流是两个重要的工艺参数，对薄膜的组织形貌及性能具有显著影响。本文以TiN/TiAlN复合膜为例，探讨了偏压、靶电流对多弧离子镀制备的薄膜的影响。

二、实验方法

1.材料选择与制备

实验选用高纯度钛靶材和氮气作为反应气体，采用多弧离子镀技术制备TiN/TiAlN复合膜。

2.实验设计

实验过程中，分别调整偏压和靶电流参数，探究不同参

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