《区域可控空心阴极放电特性及其对Si-DLC薄膜性能的影响》.docxVIP

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  • 2025-01-11 发布于北京
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《区域可控空心阴极放电特性及其对Si-DLC薄膜性能的影响》

一、引言

在过去的几十年里,等离子体技术已被广泛应用于材料制备、薄膜生长以及纳米科技等领域。其中,空心阴极放电(HollowCathodeDischarge,HCD)以其稳定性和可调控性成为了研究的热点。本文将重点探讨区域可控空心阴极放电的特性及其对Si-DLC(类金刚石碳膜)薄膜性能的影响。

二、区域可控空心阴极放电特性

区域可控空心阴极放电,作为一种先进的等离子体技术,其工作原理是利用强电磁场和等离子体相互作用,形成稳定且可调控的放电区域。这种技术具有以下特点:

1.稳定性高:通过精确控制电磁场和等离子体的相互作用,可以获

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