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金相分析基础透射电子显微镜——成像原理和主要结构
透射电子显微镜——成像原理和主要结构性能材料结构工艺
一、透射电镜成像原理入射电子束金属薄膜样品透射束物镜焦平面衍射谱衍射模式像平面样品像成像模式荧光屏
二、透射电镜主要结构照明系统电子光学系统供电系统真空系统成像系统显像系统
二、透射电镜主要结构钨丝阴极：发射电子。电子枪栅极：比灯丝负100~1000V。阳极：接地，加速电子。聚光镜电磁透镜，会聚电子束。
二、透射电镜主要结构成像系统：样品室、物镜、中间镜、投影镜。物镜：决定分辨率，强激磁、短焦距、高放大倍数（100~300倍）。聚焦成像，第一次放大。中间镜：弱激磁、长焦距、放大倍数（0~20倍）。控制工作模式（衍射或成像模式），第二次放大。投影镜：强激磁、短焦距、高放大倍数（~100倍）。第三次放大，投影到荧光屏或CCD上。M=M*M*M物中投
二、透射电镜主要结构物镜光阑选区光阑
二、透射电镜主要结构提高解决问题的效率和质量团队协作更多的创新思路和解决方案提高学习的深度和广度
二、透射电镜主要结构荧光屏：观察、记录照视观观相频察察底摄、相记机录：、片像记：机录记：录
二、透射电镜主要结构样品台与样品杆侧插式样品台单样品样品杆多样品样品杆
成像原理主要结构总透射电镜照明系统成像系统结电子光学系统显像系统供电系统真空系统
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