光电子能谱分析.ppt

图5-12镜筒分析器示意图筒镜形电子能量分析器四、电子检测器检测目的——通过计数的方式测量电子的数目检测器——单通道电子倍增器和多通道倍增器光电子或俄歇电子流倍增器通道电子倍增器是一种采用连续倍增电极表面（管状通道内壁涂一层高阻抗材料的薄膜）静电器件。内壁具有二次发射性能。电子进入器件后在通道内连续倍增，增益可达109。多通道检测器是由多个微型单通道电子倍增器组合在一起而制成的一种大面积检测器，也称位敏检测器（PSD）或多阵列检测器。五、真空系统电子能谱仪的真空系统有两个基本功能。1、使样品室和分析器保持一定的真空度，减少电子在运动过程中同残留气体分子发生碰撞而损失信号强度。2、降低活性残余气体的分压。因在记录谱图所必需的时间内，残留气体会吸附到样品表面上，甚至有可能和样品发生化学反应，从而影响电子从样品表面上发射并产生外来干扰谱线。真空度：＜10-5Torr样品制备样品处理测定的注意事项第四节光电子能谱测定技术电子能谱仪原则上可以分析固体、气体和液体样品。气化冷冻气体液体固体采用差分抽气的方法把气体引进样品室直接进行测定块状：直接夹在或粘在样品托上在样品托上；粉末：可以粘在双面胶带上或压入铟箔（或金属网）内，也可以压成片再固定在样品托上。（1）真空加热；（2）氩离子刻蚀。校正或消除样品的荷电效应电中和法、内标法和外标法金属网所用的材料不与样品反应。04简单易行05通常把粉末粘结在双面的导电胶带上即可。其缺点是在真空下粘结剂可能蒸发，污染样品和样品室，从而难获得高真空度，同时粘结剂不能加热处理，也不能冷却。01第三种是溶剂处理法，把样品溶于易挥发溶剂中，制备成溶液（水也可以作溶剂），把溶液涂在样品台或金属片上，待溶剂蒸发。所用的样品量仅在μg／cm2以下，只需要使溶液附着均匀即可。需要注意的是，溶剂必须完全蒸发掉，特别是其中含有与样品相同的元素时尤其要注意，否则将引起测量误差。03第二种粉末法是压片法，即把样品粉末均匀地撒在金属网上，然后加压成片。这个方法的优点是不怕污染，可以在加热或冷却条件下进行测试，信号强度高。021.粉末样品一、样品制备2.块状样品可以直接固定在样品托上。金属样品——点焊法；非金属样品——可用真空性能好的银胶粘在样品托上。块状样品的表面应当尽可能光滑，这样可以得到强度较高的谱图。为了获得光滑表面，样品经研磨后，需除去研磨剂，并保持样品表面清洁，防止油渍污染，以消除附加的C、O等元素峰的影响。可以用挥发性好的溶剂清洗或者微加热样品（不能使样品氧化）。块状固体样品的大小和形状主要取决于样品台的大小。其他制样的方法，如真空蒸发喷镀等。我们自己完成的工作3.液体与气体样品液体样品直接法——是将溶液铺展在被酸侵蚀过的金属板上，待溶剂挥发后测定（如不用溶剂则可直接测定）。间接法——前者用冷冻法或蒸发冷冻法，把液体转变为固体然后再测定。气体样品冷凝法直接测定金属板一般采用铝板，在HCI溶液中浸蚀2～3min。直接测定气体样品有相当的技术难度，因为气体有一定的压力，同时要防止光电子与气体分子的相互碰撞。二、样品的预处理样品常常受污染，电子能谱仪都设有样品预处理室，它与样品室分隔。样品制备好后都要放在样品预处理室内进行预处理，然后才能进行样品测试。用预处理室的真空度（10－7Torr或更小）并对样品进行烘烤或去气处理。清洁样品表面，消除污染对测定结果准确度的影响。①加热法。可以将表面的油污等除去。②离子溅射（刻蚀）法。其方法是用氩离子Ar+轰击样品表面层，将表面附着物除去。通过预处理室内的加热蒸发装置，在样品处理室中进行蒸发制备样品。对于非导体样品，经过表面清洁后，为减少表面带电现象，可以在预处理室内进行喷镀贵重金属涂层的操作。当X射线射向样品，表面不断产生光电子，表面原子产生电子空穴，使样品带正电。对于非导体就难以实现负电子的补充，表面带正电。X射线单色器中的中和电荷的电子又很少，于是荷电效应引起发射出的光电子的动能降低，造成记录谱线位移。1.非导体样品荷电效应及消除X射线的入射窗口材料是铝，当它受X射线照射后就发出二次电子，可以中和一部分正电荷。在样品室附近还安装有中和电子枪，喷射出的电子专供中和表面正电荷。若采用Al窗口表面镀金，中和样品表面荷电效应更为有效。用负电子中和表面的电子空穴。三、测定的注意事项利用已精确测定的标准谱线，把产生此谱线的电子发射源混入被测样品中，或利用同一分子中不同原子发射的谱线。根据它的能量位置，可定出其他谱线的位置，再换算成结合能。常用的标准谱线如表5-5所示。