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硅无机非金属材料
[核心素养发展目标]1.结合真实情境中的应用实例或通过试验探究,了解硅及其重要化合物的主要性质。2.通过新型无机非金属材料的学习,知道硅及其化合物在材料家族中的应用,增加关注社会的意识和责任感。
一、单质硅与半导体材料
1.半导体材料
半导体材料特指导电实力介于导体和绝缘体之间的一类材料。目前广泛运用的半导体材料是硅。
2.单质硅
(1)存在:硅在地壳中的含量仅次于氧,自然界中没有游离态的硅,常见化合态的硅有二氧化硅和硅酸盐等。
(2)物理性质:单质硅可分为晶体硅和无定形硅(非晶硅)两种。晶体硅是一种带有金属光泽的灰黑色固体,熔点高、硬度大、有脆性,是良好的半导体材料。
(3)化学性质:硅原子最外层有4个电子,得失电子都较难,化学性质不活泼。常温下,除与F2、HF和强碱溶液反应外,硅不与其他物质(如强酸和强氧化剂)反应。加热时,能与O2、Cl2、C发生化合反应。
①与非金属单质反应
与氟气反应:Si+2F2===SiF4。
与氯气反应:Si+2Cl2eq\o(=====,\s\up7(高温))SiCl4。
与氧气反应:Si+O2eq\o(=====,\s\up7(△))SiO2。
②与氢氧化钠溶液反应
化学方程式:Si+2NaOH+H2O===Na2SiO3+2H2↑。
③与氢氟酸反应
化学方程式:Si+4HF===SiF4↑+2H2↑。
(4)高纯硅的制取:
制粗硅:SiO2+2Ceq\o(=====,\s\up7(高温))Si(粗)+2CO↑。
提纯(与Cl2反应):Si(粗)+2Cl2eq\o(=====,\s\up7(高温))SiCl4。
还原(用H2还原):SiCl4+2H2eq\o(=====,\s\up7(高温))Si(纯)+4HCl。
(5)硅的用途
硅是常温下化学性质稳定的半导体材料,广泛用于计算机技术领域,如制造晶体管、硅芯片、集成电路。硅还可用于制造硅整流器、太阳能电池及硅合金等。
例1下列关于碳和硅的叙述中,正确的是()
A.加热到肯定温度时,其单质都能与氧气等非金属反应
B.常温下,碳单质化学性质活泼,硅单质化学性质不活泼
C.硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质反应
D.碳和硅两种元素都有能导电的单质,在自然界中均有单质和化合态
答案A
解析碳原子和硅原子最外层电子数都是4个,不简洁得到或失去电子,化学性质都不活泼,B项错误;硅在常温下能与氟气、氢氟酸、氢氧化钠溶液反应,C项错误;石墨和晶体硅都能导电,在自然界中有单质碳,也有化合态碳,但在自然界中只有化合态硅,没有游离态的硅,D项错误;在加热条件下碳和硅都能与氧气等非金属单质反应,A项正确。
例2高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,它可以按下列方法进行制备:
SiO2eq\o(――→,\s\up7(①C),\s\do5(高温))Si(粗)eq\o(――――→,\s\up7(②HCl),\s\do5(300℃))SiHCl3eq\o(―――――→,\s\up7(③过量H2),\s\do5(1000~1100℃))Si(纯)
下列说法不正确的是()
A.①②③均属于氧化还原反应
B.SiHCl3(沸点31.8℃)中含有少量的SiCl4(沸点57.6℃),通过蒸馏可提纯SiHCl3
C.氢气和氯化氢均可循环利用
D.反应①的化学方程式为SiO2+Ceq\o(=====,\s\up7(高温))Si+CO2↑
答案D
解析反应①是二氧化硅与焦炭反应生成硅和一氧化碳,反应②是硅与氯化氢反应生成三氯甲硅烷(SiHCl3)和氢气,反应③是三氯甲硅烷(SiHCl3)与氢气反应生成硅和氯化氢,三个反应中都有单质参与反应并有新单质生成,肯定有元素的化合价发生改变,它们都是氧化还原反应;SiHCl3与SiCl4的沸点相差较大,所以可通过蒸馏除去SiCl4;在高纯硅的生产流程中,氢气和氯化氢可以重复利用;二氧化硅与C在高温条件下反应生成Si和CO,不是二氧化碳。
易错警示二氧化硅与焦炭在高温下制取粗硅的反应中生成的是CO而不是CO2;教材中粗硅提纯过程为粗硅eq\o(――→,\s\up7(Cl2),\s\do5(高温))SiCl4eq\o(――→,\s\up7(H2),\s\do5(高温))Si(高纯硅),反应为Si+2Cl2eq\o(=====,\s\up7(高温))SiCl4、SiCl4+2H2eq\o(=====,\s\up7(高温))Si+4HCl。
二、二氧化硅与光导纤维
1.二氧化硅的存在
二氧化硅广泛存在于自然界中,与其他矿物共同构成了岩石。沙是含较多杂质的SiO2;石英是含较少杂质的SiO2;水晶是透亮的石英晶体;玛瑙是含有色杂质的石英晶体;硅藻土是无定形
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