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2025年半导体芯片制造中、高级工考试题库(完整版)
1.【单项选择题】在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
A、干氧
B、湿氧
C、水汽氧化
D、不能确定哪个使用的时间长
【答案】A
2.【填空题】化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。
【答案】酸性;氧化性
3.【填空题】大容量可编程逻辑器件分为()和()。
【答案】复杂可编程逻辑器件;现场可编程门阵列
4.【多项选择题】下列材料属于N型半导体是()。
A.硅中掺有元素杂质磷(P)、砷(As)
B.硅中掺有元素杂质硼B.、铝(Al)
C.砷化镓掺有元素杂质硅
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