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《真空及薄膜基础》课程简介本课程旨在介绍真空技术与薄膜技术的基本原理、工艺流程和应用领域。

课程大纲介绍真空基础真空的概念真空中的物理过程真空的产生方法真空泵的工作原理真空测量方法真空系统设计薄膜基础薄膜的概念和分类薄膜的制备方法薄膜的结构与性能薄膜的应用领域

真空的概念真空是指一个空间内气体分子密度远低于大气压力的状态。真空度是指真空环境中气体分子密度与标准大气压下的气体分子密度的比值。真空度越高，空间内气体分子越稀疏，接近于理想的真空状态。

真空中的基本物理过程1气体分子运动随机运动，相互碰撞2分子间作用力范德华力，氢键3气体分子与壁面相互作用吸附，解吸，反弹

真空的产生方法1机械泵通过机械运动抽取气体,常用于初级抽真空。2分子泵利用高速旋转的叶轮将气体分子带走,可获得高真空。3离子泵通过电离气体分子并使之沉积在阴极上,可获得极高真空。4吸附泵利用固体吸附剂吸附气体分子,可获得高真空。

真空泵的工作原理1抽气过程真空泵通过降低气体压力来创造真空环境，从而使气体从工作腔中抽出。2压缩气体抽出的气体被压缩，然后被排放到大气中或收集起来。3工作原理不同的真空泵使用不同的机制来抽气和压缩气体，例如机械泵、分子泵、离子泵等。

机械真空泵的类型及应用往复式真空泵广泛应用于各种真空系统，包括实验室研究、工业生产、半导体制造等旋片式真空泵适用于需要较高的抽速和真空度的场合，如真空镀膜、电子束蒸发等滑阀式真空泵具有较高的抽气效率，适合用于需要大流量抽气的场合，如真空干燥、真空包装等

分子泵的工作原理及特点气体分子运动分子泵利用高速旋转的转子叶片，将气体分子从低压区抽到高压区，从而实现真空抽取。高速旋转分子泵的转子叶片以高速旋转，通常转速可达每分钟数万转，从而产生强大的抽气能力。无油污染分子泵的工作原理不涉及油脂，因此不会产生油蒸气污染，适用于对真空环境要求较高的场合。

离子泵的结构及性能结构离子泵主要由阴极、阳极和磁场组成。阴极通常采用钛金属或钽金属制成，阳极通常采用不锈钢或钼金属制成。性能离子泵具有抽速高、极限真空度低、无油污染、使用寿命长等优点。

真空测量的基本原理1压力真空度通常用压力表示，单位为帕斯卡(Pa)或托(Torr).2气体分子密度真空度越高，气体分子密度越低，意味着气体分子之间的碰撞频率更低。3平均自由程在真空中，气体分子的平均自由程随着压力的降低而增加。

真空计的分类及特点热阴极电离真空计测量范围为10-3-10-10Pa，具有较高的灵敏度和精度，但需要加热阴极，容易受污染。冷阴极电离真空计测量范围为10-1-10-8Pa，结构简单，无需加热，但灵敏度和精度较低。机械真空计测量范围为102-10-1Pa，结构简单，价格低廉，但灵敏度和精度较低。

真空系统的构成及设计1真空室真空室是整个真空系统的核心，用来容纳被抽取的气体和进行各种工艺操作。2真空泵真空泵是真空系统的重要组成部分，用来降低真空室内的气体压力。3真空测量仪表真空测量仪表用来监测真空室内的压力变化，确保工艺过程的正常进行。真空系统的设计要根据具体的应用场景和工艺要求进行，例如，需要考虑真空室的尺寸、材料、真空度、工作压力等因素。

真空泄漏的检测方法使用真空计监测系统压力变化，识别泄漏点。利用氦气等惰性气体进行泄漏检测，提高检测灵敏度。采用光学检测方法，例如紫外光泄漏检测，定位泄漏位置。

真空系统的维护与保养定期清洁定期清洁真空系统内部，去除灰尘和杂质，确保系统性能稳定。更换油液定期更换真空泵油，保持油液清洁度，延长泵的使用寿命。检查密封定期检查真空系统密封性，及时修复泄漏，避免气体进入系统。

薄膜的概念和分类薄膜是指在固体基底表面上沉积的，厚度在纳米到微米量级的物质层。薄膜材料根据其组成和性质可以分为多种类型，主要包括：金属薄膜半导体薄膜绝缘薄膜复合薄膜

薄膜的制备方法物理气相沉积PVD，例如溅射、蒸镀等，利用物理方法将材料原子或分子转移到基底表面，形成薄膜。化学气相沉积CVD，利用化学反应在基底表面生成薄膜，例如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。溶液法利用溶液中的物质在基底表面发生反应或沉积，形成薄膜，例如旋涂、浸涂等。其他方法例如分子束外延、脉冲激光沉积等，用于制备特殊性能的薄膜。

溅射薄膜的制备原理1靶材首先，将待沉积材料制成靶材，放置在真空腔室内。2气体在腔室内充入惰性气体，例如氩气，作为工作气体。3放电在靶材和基底之间施加高压，使气体发生电离，形成等离子体。4轰击等离子体中的离子加速轰击靶材，使靶材表面的原子或分子溅射出来。5沉积溅射出来的原子或分子沉积在基底表面，形成薄膜。

化学气相沉积法的特点高纯度化学气相沉积法可以通过控制气体原料的纯度和反应条件，制备高纯度的薄膜。均匀性化学气相沉积法可以制备均匀性较好的薄膜，适合大面积薄膜