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真空溅镀工藝介紹Preparedby:EchoDate:2010/11/20真空溅镀作為一種新興的鍍膜技術,其產品表面有超強金屬質感。被越來越多的應用在手機等電子產品的外殼表面處理,其膜面不緊亮度高,質感細膩逼真,可做出多種亮麗色彩。同時,它還有製作成本较低,有利環境保護,較少受到基材材質限制的優點。前言真空濺鍍的優点:(1)表面有超強金屬質感,亮度高,質感細膩。(2)可以解决闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等七彩色的问题。(水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种)(3)各種高沸點金属、合金或绝缘物均可做成靶材材料。(4)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。(5)靶材選擇廣泛,可避免使用有害物質(水鍍鍍層材質一般含六價鉻)而且所有镀层材料都是在真空环境下通过离子体沉积在基材上,没有溶液污染,有利於環境保護。(6)基板材質選用範圍廣,如ABS料、ABS+PC料(水鍍只能鍍ABS材質)(7)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。真空濺镀不过UV油,其附着力較差,要保证真空濺镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本提高获得真空和离子体的仪器设备精密昂贵,其投资和日常生产维护费用昂贵01真空濺鍍的缺點:02真空溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法.在真空状态充入惰性气体氬氣(Ar),并在塑胶基材(陽極)和金属靶材(陰極)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glowdischarge)产生的电子激发惰性气体产生氬氣正離子,正離子向陰極靶材高速運動,将靶材原子轰出,沉积在塑胶基材上形成薄膜。1真空溅镀的原理:2粒子碰撞原理:靶材氣體Ar+靶材原子等粒子Ar+靶材氣體基材溅镀要求在高真空狀態充入惰性氣體實現輝光放電.該工藝要求真空度在1.3×10-3Pa的分子流狀態。真空濺鍍氣壓要求:真空泵實現高真空狀態主要工藝流程:底漆UV/IR照射烘乾成品真空濺鍍前處理面漆裝配UV/IR照射烘乾清潔处理裝配前處理將素材表面雜質,灰塵等用布摖拭乾淨,提高噴漆良率將素材裝配於專用掛具上,用以固定於流水線上,並按設計需求實現外觀和功能性的遮鍍裝配線前處理將掛件置於流水線上,自動進入噴漆房*
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