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低温光波制备ITO透明导电薄膜:工艺、性能与机制探索
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代光电器件的发展进程中,透明导电薄膜扮演着不可或缺的角色,而氧化铟锡(ITO)薄膜凭借其卓越的综合性能,成为该领域的核心材料之一。ITO薄膜主要由氧化铟(In?O?)和少量氧化锡(SnO?)组成,通常氧化铟与氧化锡的质量比为90:10。这种独特的成分赋予了ITO薄膜一系列优异特性,使其在众多光电器件中占据关键地位。
在平板显示领域,无论是液晶显示器(LCD)、有机发光二极管显示器(OLED),还是新兴的量子点显示器(QLED),ITO薄膜都被用作透明电极。以LCD为例,ITO薄膜作为电
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