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化学气相沉积法构筑硫化镓纳米材料及其性能的深度剖析.docx

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化学气相沉积法构筑硫化镓纳米材料及其性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代,纳米材料凭借其独特的物理化学性质,成为了众多领域研究的焦点。硫化镓(Ga_2S_3)作为一种重要的半导体纳米材料,因其在光电器件、催化、传感器等领域展现出的巨大应用潜力,受到了科研人员的广泛关注。

硫化镓属于Ⅲ-Ⅵ族化合物半导体,具有直接带隙,其带隙宽度约为2.4-2.6eV,这一特性使其在可见光到近红外光范围内表现出良好的光学响应,在光电器件如发光二极管(LED)、光电探测器等方面具有广阔的应用前景。与传统的硅基半导体材料相比,硫化镓纳米材料具有更高的电子迁移率和光

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