预溅射层对铜铟镓硒薄膜择优取向调控机制研究.docxVIP

预溅射层对铜铟镓硒薄膜择优取向调控机制研究

目录

预溅射层对铜铟镓硒薄膜择优取向调控机制研究（1）．．．．．．．．．．．．4

一、内容概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.2研究目的与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.3国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

二、实验材料与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

2.1实验材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

2.2设备与仪器．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

2.3实验方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

2.3.1预溅射技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

2.3.2薄膜制备工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

2.3.3择优取向检测与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

三、预溅射层对CuInGaSe2薄膜择优取向的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．11

3.1预溅射层厚度对择优取向的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

3.2预溅射层成分对择优取向的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

3.3预溅射层结构对择优取向的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

四、预溅射层调控CuInGaSe2薄膜择优取向的机理分析．．．．．．．．．．．14

4.1预溅射层对表面能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

4.2预溅射层对界面能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

4.3预溅射层对成核与生长过程的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

五、预溅射层优化方案与实验验证．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

5.1优化预溅射层厚度．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

5.2优化预溅射层成分．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

5.3优化预溅射层结构．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

5.4实验验证与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

六、结果与讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

6.1预溅射层对CuInGaSe2薄膜光电性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．21

6.2预溅射层对CuInGaSe2薄膜结构性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．21

6.3预溅射层对CuInGaSe2薄膜稳定性影响的分析．．．．．．．．．．．．．．．22

七、结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

7.1研究结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

7.2研究局限性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

7.3未来研究方向．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

预溅射层对铜铟镓硒薄膜择优取向调控机制研究（2）．．．．．．．．．．．25

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

1.2研究意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

1.3国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

预溅射层的基本理论．．．．．．．．．．．