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2025届上海市浦东新区高三上学期学业质量检测化学试卷
一、填空题
(★★)1.蚀刻是半导体制造工艺中的重要步骤,其原理是通过物理或化学方法对材料(如、等)进行选择性的去除,蚀刻分为干法蚀刻和湿法蚀刻,和是干法蚀刻时常用的氯基气体。
(1)蚀刻铝时发生了和的反应,这说明具有___________。
A.酸性
B.可燃性
C.氧化性
D.漂白性
(2)蚀刻铝时的生成物之一可作净水剂,原因是它溶于水能形成胶体,下列关于胶体的认识,错误的是___________。
A.可以产生丁达尔现象
B.可以透过半透膜
C.胶体呈电中性
D.可以吸附水中的悬浮颗粒物
(3)已知硼是第2周期IIIA族的元素,下列关于硼的说法正确的是___________。
A.非金属性:硼碳
B.最高价氧化物对应水化物酸性:硼氯
C.原子半径:硼氮
D.最高正化合价:硼铝
(4)三甲基胺合三氯化硼(化学式为)在液晶领域的应用广泛。该化合物中提供空轨道形成配位键的原子是___________。
A.氢B.硼C.碳D.氮
三甲基胺的结构简式为___________,已知其中碳元素的化合价为-2价,从共用电子对偏移的角度解释原因___________。
(5)硝酸和氢氟酸是湿法蚀刻单晶硅的重要试剂。某次蚀刻中,产生了相同物质的量的和,配平此条件下的化学方程式:___________。
___________Si+___________HNO3+___________HF—H2SiF6+___________NO↑+___________NO2↑+___________H2O
若反应过程中转移了电子,则理论上可蚀刻___________。实际生产中,收集到的气体体积小于理论值,可能的原因有___________(任写一条)。
二、解答题
(★★★)我国化工专家侯德榜的“碳化法合成氨流程制碳酸氢铵”的工艺,曾被国家科委审定为重大发明。该反应的基本原理是:。
2.合成氨工业中使用的催化剂主要含有和,这两种化合物都___________。
A.是碱性氧化物
B.具有磁性
C.是红棕色固体
D.可被CO还原
3.下列关于合成氨工业的描述中,错误的是___________。
A.可用为原料制取
B.实际生产中维持氢氮比为2.8~2.9
C.合成塔中通过热交换器提高能效
D.通过溶于水的方法分离产生的
实验室为模拟生产,利用下图实验装置制备原料气体。
4.用该装置制备时,若中固体为大理石,中液体为稀盐酸,则反应的离子方程式为___________。为除去中混有的少量,可将混合气体通过盛有饱和___________溶液的洗气瓶。
A.B.C.D.
5.用该装置制备时,若中液体为浓氨水,中固体为生石灰,解释产生的原因___________。
为探究溶液与少量溶液反应时的原理,明确与、反应时,是否存在“先后”关系,进行如下探究。
常温下,取的溶液于锥形瓶中,向其中逐滴滴入的溶液,记录过程中溶液的变化,转换成溶液中、的浓度,结果如图1。
6.分析图1中数据,可以得出的实验结论有___________(任写两点)。
7.当时,测得溶液,此时混合体系中各离子浓度由大到小的顺序为___________。
8.若改用的溶液代替溶液完成上述实验,溶液中的离子浓度变化情况如图2所示,解释图2中和的变化曲线与图1存在差异的原因___________。
三、填空题
(★★★)含碳的物质和材料广泛地应用于生产生活和科学研究中,人工合成金刚石的两种方法所涉反应如下:
①;②。
9.上述反应所涉及的元素中,第一电离能最小的是___________。
A.钠
B.碳
C.氯
D.氧
10.若碳原子核外电子排布有和两种状态,由状态到状态时能量___________。
A.升高B.降低C.不变
11.的电子式为___________。每个和分子中键的个数比为___________。
(★★★)2024年《自然》杂志上报道了一种含有碳—碳单电子键的化合物,其化学式为,丰富了经典化学键理论。该物质的结构如下图,虚线和圆点表示仅有1个共用电子的键。
(其中:-Ph表示)
12.上图
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