网站大量收购独家精品文档,联系QQ:2885784924

第37届中国化学奥林匹克(初赛)答案.pdfVIP

第37届中国化学奥林匹克(初赛)答案.pdf

此“教育”领域文档为创作者个人分享资料,不作为权威性指导和指引,仅供参考
  1. 1、本文档共13页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多

第37届中国化学奥林匹克(初赛)试题参考答案

每题实际得分分值应为每题设定分数与占比乘积,总分100分。

第1题(14分,占7%)镓的化合物

1-1半导体工业中通过刻蚀制造微纳结构。GaN是重要的半导体材料,通常采用含氯气体

在放电条件下进行刻蚀。写出利用Ar-Cl2混合气体放电刻蚀GaN的化学方程式。

1-12GaN+3Cl→2GaCl+N(2分)

232

1-2金属镓熔点很低但沸点很高,其中存在二聚体Ga。1990年,科学家将液态Ga和I

22

在甲苯中超声处理,得到了组成为GaI的物质。该物质中含有多种不同氧化态的Ga,具

有两种可能的结构,分子式分别为GaI(A)和GaI(B),二者对应的阴离子分别为C和

4466

D,两种阴离子均由Ga和I构成且其中所有原子的价层均满足8电子。写出示出A和B

组成特点的结构简式并标出Ga的氧化态,画出C和D的结构。

0IIII

1-2A为[Ga][Ga][GaI](结构简式1分,氧化态2分)

24

0IIII

B为[Ga][Ga][GaI](结构简式1分,氧化态2分)

2226

(各1分,未标电荷不得分)

1-3GaI常用于合成低价Ga的化合物.将GaI与Ar’Li(Ar’基如图所示,解答中直接采用

简写Ar’)在-78°C的甲苯溶液中反应,得到晶体E,E中含有2个Ga原子;E在乙醚溶

液中与金属钠反应得到晶体F,X射线晶体学表明,F中的Ga-Ga键长比E中短0.028

nm,关于F中Ga-Ga的键级历史上曾有过争议,其中一种观点认为,F中的Ga价层满足

8电子。基于该观点,画出E和F的结构式。

1-3

(各2分,未标电荷或未写出阳离子扣1分)

第2题(12分,占6%)复盐的组成

在NHCl-CuCl-HO体系中,结晶出一种淡蓝色物质A,其组成可表示为xNHCl·CuCl·yHO。

422422

-

称取1.4026g晶体A,溶于水并在250mL容量瓶中定容。Cl分析:移取25.00mL溶液,

加入2滴0.5%荧光黄的乙醇溶液和一滴稀NaOH溶液,再加2mL0.5%淀粉溶液,用0.1036

mol·L-1AgNO3溶液滴定(反应1)至出现粉红色,消耗19.52mL;Cu2+分析:移取25.00mL

溶液,加入lmol·L-1HSO溶液5mL,再加固体KI1.5g,混匀井放置(反应2),用0.02864

24

mol·L-1NaSO溶液滴定(反应3),至棕色较浅时加入2mL0.5%淀粉溶液,继续滴至蓝

223

紫色恰好消失,消耗17.65mL。

2-1写出反应1~3的方程式。

+-

2-1反应1:Ag+Cl→AgCl

您可能关注的文档

文档评论(0)

xiaokuoai173 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档