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通过霍尔效应测量磁场
实验简介
在磁场中的载流导体上出现横向电势差的现象是24岁的研究生霍尔(EdwinH.Ha)在1879
年发现的,现在称之为霍尔效应。随着半导体物理学的迅猛发展,霍尔系数和电导率的测量已经成
为研究半导体材料的主要方法之一。通过实验测量半导体材料的霍尔系数和电导率可以判断材料的
导电类型、载流子浓度、载流子迁移率等主要参数。若能测得霍尔系数和电导率随温度变化的关系,
还可以求出半导体材料的杂质电离能和材料的禁带宽度。
在霍尔效应发现约100年后,德国物理学家克利青(KlausvonKlitzing)等研究半导体在极低
温度和强磁场中发现了量子霍尔效应,它不仅可作为一种新型电阻标准,还可以改进一些基本量的
精确测定,是当代凝聚态物理学和磁学令人惊异的进展之一,克利青为此发现获得1985年诺贝尔
物理学奖。其后美籍华裔物理学家崔琦(D.C.Tsui)和施特默在更强磁场下研究量子霍尔效应时发
现了分数量子霍尔效应。它的发现使人们对宏观量子现象的认识更深入一步,他们为此发现获得了
1998年诺贝尔物理学奖。
用霍尔效应之制备的各种传感器,已广泛应用于工业自动化技术、检测技术和信息处理各个方
面。本实验的目的是通过用霍尔元件测量磁场,判断霍尔元件载流子类型,计算载流子的浓度和迁
移速度,以及了解霍尔效应测试中的各种副效应及消除方法。
实验原理
通过霍尔效应测量磁场
霍尔效应装置如图2.3.1-1和图2.3.1-2所示。将一个半导体薄片放在垂直于它的磁场中(B
的方向沿z轴方向),当沿y方向的电极A、A’上施加电流I时,薄片内定向移动的载流子(设平
均速率为u)受到洛伦兹力F的作用,
B
F=quB(1)
B
无论载流子是负电荷还是正电荷,F的方向均沿着x方向,在磁力的作用下,载流子发生偏
B
移,产生电荷积累,从而在薄片B、B’两侧产生一个电位差V’,形成一个电场E。电场使载流子
BB
又受到一个与F方向相反的电场力F,
BE
F=qE=qV/b(2)
EBB’
其中b为薄片宽度,F随着电荷累积而增大,当达到稳定状态时F=F,即
EEB
quB=qV/b(3)
BB’
这时在B、B’两侧建立的电场称为霍尔电场,相应的电压称为霍尔电压,电极B、B’称为霍
尔电极。
另一方面,射载流子浓度为n,薄片厚度为d,则电流强度I与的关系为:
Ibdnqu(4)
由(3)和(4)可得到
1IB
V(5)
BBnqd
1
令R,则
nq
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