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宽入射角3-5μm波段中红外减反膜制备及其性能研究

一、引言

随着红外技术的不断发展，中红外波段的光学元件在军事、医疗、环境监测等领域得到了广泛应用。然而，中红外波段的减反射膜技术却面临着诸多挑战，如高透射率、宽光谱响应和宽入射角等。因此，本文针对宽入射角3-5μm波段的中红外减反膜制备及其性能进行了深入研究。

二、减反膜制备技术

1.材料选择

本研究所选用的材料为具有优异光学性能的特种材料，包括具有高折射率的氧化物和低折射率的氟化物等。这些材料在中红外波段具有较高的透过率和较低的吸收率，为制备高性能的减反膜提供了良好的基础。

2.制备工艺

减反膜的制备采用先进的物理气相沉积（PVD）技术，包括电子束蒸发、磁控溅射等方法。在制备过程中，通过精确控制蒸发速率、溅射功率等参数，实现了对膜层厚度、折射率等关键参数的精确控制。

3.膜层设计

为满足宽入射角的要求，本研究设计了多层膜结构，通过精确控制各层膜的厚度和折射率，实现了对中红外波段的光学性能的优化。同时，采用抗反射膜的设计原理，有效降低了膜层的反射率。

三、性能研究

1.光学性能

通过对制备的减反膜进行光学性能测试，发现其在3-5μm波段的透射率达到了90%