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精密制造之光刻胶技术;课程大纲;光刻胶的定义;光刻胶技术的战略意义;光刻胶技术发展历程;光刻胶基本分类;正性光刻胶工作原理;负性光刻胶工作原理;光刻胶关键性能指标;光刻工艺基本流程;涂胶技术;曝光技术;显影与蚀刻技术;光刻胶材料化学组成;光敏剂研究;分辨率提升技术;光刻胶在半导体领域应用;MEMS领域应用;显示面板制造;精密光学元件制造;新兴应用领域;国际技术竞争态势;主要国际供应商;国内光刻胶企业;光刻胶技术挑战;极紫外光刻技术;光刻胶纯度要求;成本控制策略;未来技术发展方向;纳米级图案制造;新型感光材料研究;智能制造集成;环境友好技术;性能提升路径;计算模拟与设计;检测与表征技术;光刻胶检测指标;工艺参数控制;设备技术要求;安全与环境考量;专利与知识产权;人才培养;标准化建设;经济效益分析;全球市场规模;投资与研发策略;技术路线图;挑战与机遇;国际合作;产业生态;战略建议;关键技术突破点;技术创新路径;风险评估;政策支持;案例分析;未来展望;总结关键点;思考与启示;结语：引领精密制造新时代
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