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离子注入技术(Implant);2基本原理和基本结构1综述;最早应用于原子物理和核物理研究;2基本原理和基本结构基本原;离子束加工方式可分为1、掩模方;基本结构:离子注入系统(传统);基本结构:离子注入系统(传统);离子注入系统示意图;离子注入系统实物图;2.1离子源作用:产生所需种;LMIS的类型、结构和发射机;注入离子浓度分布离子注入过程:;注入离子分布(高斯型)RP:投;2.3退火工艺注入离子会引;一个离子引起的晶格损伤轻离子重;退火前后的比较退火前退火后;离子注入扩散1低温,光刻胶掩膜;离子注入的缺点离子注入将在靶中;离子注入的应用固体材料表面改性;离子注入机设备与发展中束流μA;GSD/200E2离子注入机技;GSD/200E2离子注入机技;离子注入机设备与发展;离子注入机设备与发展目前最大的;未来电子技术发展水平的瓶颈;未;Thankyou!
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