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真空科技：半导体制造的关键优化操作，提升产品质量与产能Presentername
Agenda半导体制造流程真空设备作用真空设备在制造中应用真空设备操作要点真空设备运维真空设备关键作用
01.半导体制造流程概述常见的工艺步骤
步骤三光刻和蚀刻步骤一掺杂和扩散薄膜沉积步骤二半导体制造基本流程半导体制造：电子世界的奇迹
半导体制造常见工艺步骤离子注入用于掺杂和改变材料性质薄膜沉积用于制备半导体薄膜层，提高电子器件性能。物理气相沉积用于制备半导体材料故障排除处理真空设备故障常见的工艺步骤
02.真空设备作用介绍真空度的重要性和测量方法
真空度的重要性保护设备寿命控制良好的真空度可以降低设备的磨损和
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