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2010-2023历年普通高等学校招生统一考试化学试题（上海卷）

第1卷

一.参考题库(共25题)

1.根据以下事实得出的判断一定正确的是

A．HA的酸性比HB的强，则HA溶液pH比HB溶液的小

B．和的电子层结构相同，则A原子的核电荷数比B原子的大

C．A盐的溶解度在同温下比B盐的大，则A盐溶液的溶质质量分数比B盐溶液的大

D．A原子失去的电子比B原子的多，则A单质的还原性比B单质的强

参考答案：B

2.已知气体的摩尔质量越小，扩散速度越快。右图所示为气体扩散速度的实验，两种气体扩散相遇时形成白色烟环。下列关于甲、乙的判断正确的是（???）

A．甲是浓氨水，乙是浓硫酸

B．甲是浓盐酸，乙是浓氨水

C．甲是浓氨水，乙是浓盐酸

D．甲是浓硝酸，乙是浓氨水

参考答案：C???

3.某酸性溶液中只有Na＋、CH3COO－、H＋、OH－四种离子。则下列描述正确的是(???)

A．该溶液由pH＝3的CH3COOH与pH＝11的NaOH溶液等体积混合而成

B．该溶液由等物质的量浓度、等体积的NaOH溶液和CH3COOH溶液混合而成

C．加入适量的NaOH，溶液中离子浓度为c(CH3COO－)＞c(Na＋)＞c(OH－)＞c(H＋)

D．加入适量氨水，c(CH3COO－)一定大于c(Na＋)、c(NH4＋)之和

参考答案：A

4.已知：

物质A在体内脱氢酶的作用下会氧化为有害物质GHB。下图是关于物质A的一种制备方法及由A引发的一系列化学反应。

请回答下列问题：

（1）写出反应类型：反应①____________，反应②____________。

（2）写出化合物B的结构简式_____________________________。

（3）写出反应②的化学方程式____________________________。

（4）写出反应④的化学方程式____________________________。???????????????????????????????????????????????

（5）反应④中除生成E外，还可能存在一种副产物(含结构)，它的结构简式为________________。

（6）与化合物E互为同分异构体的物质不可能为________（填写字母）。

a、醇????????b、醛????????c、羧酸???????d、酚

参考答案：（1）加成反应；消去反应。

（2）HOCH2CH2CH2CHO。

（3）。

（4）。

（5）

（6）d

5.（A）四种短周期元素的性质或结构信息如下表，请根据信息回答下列问题：

（1）B元素在周期表中的位置是_________________________，写出A原子的电子排布式__________________。

（2）写出C单质与水反应的化学方程式___________________________________________。A与C形成的化合物溶于水后，溶液的pH__________7（填“大于”、“等于”或“小于”）。

（3）D元素最高价氧化物晶体的硬度________（填“大”、“小”），其理由是____________________________。

（4）A、B两元素非金属性较强的是（写元素符号）_________。写出能证明这一结论的一个实验事实_______________________________________________________。

参考答案：（1）第三周期，ⅦA；1s22s22p63s23p6。

（2）2Na＋2H2O2NaOH＋H2↑；大于

（3）大；SiO2是原子晶体（或小；CO2是分子晶体）

（4）Cl；高氯酸的酸性大于硫酸的酸性或氯化氢稳定性比硫化氢强

6.近年来，由于石油价格的不断上涨，以煤为原料制备一些化工产品的前景又被看好。下图是以煤为原料生产聚乙烯（PVC）和人造羊毛的合成线路。

请回答下列问题：

（1）写出反应类型：反应①______________，反应②__________________。

（2）写出结构简式：PVC________________，C______________________。

（3）写出AD的化学方程式_______________________________。

（4）与D互为同分异构体且可发生碱性水解的物质有________种（不包括环状化合物），写出其中一种的结构简式_______________________________________。

参考答案：（1）加成反应；加聚反应。

（2）?；H2C=HC－CN。

（3）HC≡CH＋CH3COOHH2C=CH－OOCCH3

（4）4；CH2=CHCOOCH3。

7.下列离子方程式正确的是

?

A．与溶液反应：