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一、设计原则
中倍平场显微物镜设计
〔???25?,NA?0.4,L?195mm,l?
F
1mm〕
为有效掌握物像共轭距离,显微镜物镜需倒追光线!
dl?
推导:假设正追光线,则???2?
dl
??1?dl???dl,转变系统间隔及透镜厚度不易掌握像面
位臵,对共轭距的掌握不利,因此设计时需承受倒追光线的方法!
二、参数设定
u?
数值孔径输入:NA?nsinu?u??
?u???0.4?0.016
25
波段输入:D、F、C光,即一般白光入射
视场输入:物在有限距离,输入线视场〔单位:mm〕,物像颠倒,故y?
三、设计理念
y??12.5mm
?
系统总偏角为0.416,消色差双胶合物镜负担偏角最大0.15,单透镜负担偏角最大0.2,因此系统中承受2个双胶合和1个单透镜。为校正场曲并负担肯定的正偏角,单透镜承受肯定正光焦度的弯月形厚透镜。同时,为适当增大后工作距,将双胶合分为正负透镜形式,负透镜臵后。
四、设计过程〔优化〕
经PW法计算推导,得到最终镜头数据如表1所示:
表1初始数据
Surface
Object
r/mm
?
d/mm
165.358
材料
1
-6.823
0.95
ZF7
2
-11.015
2.7
3
25.29
1.96
ZK3
4
-17.022
7.5
Stop
?
7.4
6
11.722
2.38
ZK9
7
-6.546
1.19
ZF7
8
-22.91
0.32
9
3.597
4.08
ZBaF3
10
2.63
1
11 ? 0.17
K9
12
? 0.276789
M
Image
选择3个线视场:0、8.84mm、12.5mm
物方数值孔径〔ObjectSpaceNA〕:0.016
物距:165.358mm留意:
A.假设物距默认为无穷的话,此时输入数值孔径,系统将提示错误信息,因此需首先给定物距;B.输入距离不能为负值,优化过程中也应留意此项。负值的d只能消灭在反射式系统中;C.键盘上的“Insert”键是在“Lensdataeditor”中插入面,“Delete”为删除面,修改数据时,按“Backspace”退格键,不要按“Delete”删除;
D.在输入玻璃牌号的时候,留意区分ZF和ZK,常常有同学因搞混而导致数据错误;E.在进展系统优化时,不要选择转变盖玻片半径、厚度、后工作距和光阑半径作为变量!
将表1输入至ZEMAX中,得到点列图和MTF曲线如图2和图3所示:
〔本教程使用ZEMAX2025版〕
图2初始数据的点列图
图3初始数据的MTF数据
设定默认优化函数
选择工具栏Editors→MeritFunction→Tools→DefaultMeritFunction,在该选项框中选择RMS,
SpotRadius,Centroid,其它项默认即可,选择OK。为避开焦距变化过大,将其确定为初始值,即设定有效焦距EFFL为6.9〔选择第2波长〕。〔见附件-初始构造〕
优化过程
查看工具栏Analysis→AberrationCoefficients→SeidelDiagram〔或SeidelCoeffients〕,比较直观地观看系统各外表对各种像差的影响,鉴于显微物镜主要校正轴上点球差、色差和正弦差,因此可以选择红颜色的SphericalAberration作为主要观测对象。经观看觉察,第1、3、4、7、8这几个外表对球差影响较大,因此可以尝试这几个半径组合作为变量,每次优化在之前根底上增加两三个半径作为变量,不要一次增加太多变量,否则效果不肯定好。Ctrl+Z是设定变量的快捷方式。
在优化效果不好时,不要盲目连续甚至保存,而要按F3键返回,否则有可能因错误选择优化方向而钻入“死胡同”!最好的方法是,每次有效的优化都另存为一个文件,文件名可依据自己的习惯选择具有“标志性”的名称,这样便利以后回忆自己的设计过程或调用相关优化记录。A〕通过查看SeidelDiagram,首次选择r3,r4,r7半径作为变量,点击“OPT”进展自动优化〔结
果见附件-1优化半径347〕,点列图减小,MTF曲线变化不大,留意MeritFunction抱负值应为0;
连续选择变量r1,r8,r10半径作为变量,自动优化〔结果见附件-2优化半径1810〕;此时,像
距已变为0.05mm左右;
为防止像距过大波动,将其固定为0.1mm,取消像距位臵的“MarginalRayHeight”选项,连续优化〔结果见附件-3
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