高能束表面改性课件.pptVIP

八、鐳射熔覆層開裂的原因及預防措施原因：熔化層再凝固→體積大大收縮→→熔覆層拉應力↑↑→開裂基體受熱很少→體積幾乎不變↗通常塗層硬且脆↗開裂問題到目前為止仍然沒有完全解決！！！措施：⑴預熱：→降低冷卻速度，降低熔覆層中的應力。但效果有限，因預熱溫度不可能過高，和熔覆溫度相比，畢竟有限。⑵塗層中加入韌性相：韌性相變形→釋放應力。但性能↓⑶梯度塗層：多層熔覆，由軟及硬，緩和應力。問題：高硬功能性塗層減薄，壽命↓工藝難題：多層熔覆工藝控制，梯度成分控制效率低、成本高：結論：仍難以圓滿解決九、應用⑴發動機排氣門密封面和發動機缸蓋頭錐面熔覆鈷基合金。⑵航空發動機渦輪葉片表面鐳射熔覆抗燒蝕塗層。⑶汽輪機末級葉片葉尖迎風面熔覆耐水蝕Co基合金等(見圖)。⑷冶金行業的軋輥表面強化。⑸石油鑽頭熔覆WC層。第二節離子束表面改性一、離子束能量和表面改性技術的關係能量在數十eV~數百eV範圍內用於離子束沉積；１~５keV範圍為離子刻蝕區，用於表面微細加工；10~30MeV為離子注入區；二、離子注入定義離子注入技術是將從離子源中引出的低能離子束加速成具有幾萬到幾十萬電子伏特的高能離子束後注入到固體材料表面，形成特殊物理、化學或機械性能表面改性層三、工藝過程⑴離化→氣體，在高溫燈絲加速電子的作用下離化。簡單→金屬，先蒸發成原子，然後離化。複雜⑵分離→磁分析器從離子源產生的正離子中篩選出所需的離子⑶加速→加速器將篩選出的正離子加速到所需的能量⑷聚焦→利用四極透鏡系統將離子束進行聚焦⑸注入→聚焦後的離子束高速注入靶面（工件表面）離子注入過程的原理示意圖三、特點⑴靶材與注入或者添加的元素不受限制，幾乎所有固體材料都可以作為靶材，所有的元素都可以作為注入元素注入到靶材之中。⑵注入過程不受溫度限制，在高溫、低溫和室溫下進行。⑶注入到靶材中的原子不受靶材固溶度的限制，不受擴散係數和化學結合力的影響，因此可以獲得許多合金相圖上並不存在的合金，為研究新材料體系提供了新途徑。⑷可以精確控制摻雜數量、摻雜深度與位置，摻雜的位置精度可以達到亞微米級。⑸離子注入過程橫向擴散可以忽略，深度均勻；大面積均勻性好，摻雜雜質純度高，因此特別適合半導體器件和積體電路微細加工的工藝需求。⑹直接離子注入不改變工件尺寸，因此特別適合於精密機械零件的表面處理，如航空、航太等。⑺主要缺點為設備成本比較高，一次性投資比較大；離子注入層比較淺，一般以納米為單位進行計量，離子最大注入深度也只有數個微米。高能束表面改性美軍機載戰術鐳射武器成功擊中地面移動目標。高能雷射光束照射目標，並在其擋板上燒出了一個孔洞。第一節鐳射表面改性一、分類二、特點1.改性層足夠厚（0.1-1.0mm）注：氣相沉積一般為nm以及μm級。2.結合強度↑↑↑→因是冶金結合3.能量大而集中，作用時間短→對基體影響小4.工藝簡單、操作靈活鐳射功率、光斑大小以及掃描速度隨時可調5.自動化程度高→生產效率高1.1鐳射相變硬化一、原理⑴同一般鋼的淬火無差別⑵加熱（A化）→冷卻（淬火，得到M）→硬化⑶問題是在特殊情況下（如亞共析、過共析鋼），極難獲得全M二、鐳射相變硬化的特點⑴加熱速度↑↑→過熱度↑↑→時間短，晶粒來不及長大（103-105℃/s）→A形核率↑↑