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所有的薄膜沉积过程都涉及外表原子;
薄膜结构和成分表征的根底;
与其它相的相互作用;
外表原子通常更具活性:
三维无限晶体周期性被打破了
比体相中具有更低的配位数?悬键轨道。
外表结构和体相中的结构不同:
再构,迟豫,吸附
外表电子结构;;迟豫和再构;O2在Pt外表的分解过程示意图
外表催化;La0.7Ca0.3MnO3filmonLaAlO3substrate;14种点阵;面心立方晶格;3)体心立方晶格;复式晶格:包含两种或两种以上的等价原子;2)相同原子但几何位置不等价的原子构成的晶体;CsCl的复式晶格;ZnS的复式晶格;钛酸钡〔BaTiO3〕的复式晶格;复式晶格的原胞;晶体外表对称性;二维外表结构;;FCC(110);侧视图;Rotate45o
外表原子配位数为8(12forbulk);FCC(111);侧视图;面心立方金属(111)外表的不同吸附位
Ni(111)-PF3/PF2/PF(顶位/桥位/空心位);侧视图;密排次序:
(111),(100),(110),(311),(331),…;;bcc金属外表各层原子的位置;BCC(111);;hcp结构外表各层原子的位置;hcp结构外表各层原子的位置;3.1外表原子结构;3.1外表原子结构;金刚石结构(110);金刚石结构(111);金刚石结构(001);闪锌矿ZnS结构的〔110〕面;极性面和非极性面;://w3.rz-berlin.mpg.de/~rammer/surfexp_prod/SXinput.html;MaterialsStudio是一个采用效劳器/客户机模式的软件环境,拥有世界最先进的材料模拟和建模技术,能够容易地创立并研究分子模型或材料结构,使用极好的制图能力来显示结果。与其它标准PC软件整合的工具使得容易共享这些数据。
MaterialsStudio采用材料模拟中领先的十分有效并广泛应用的模拟方法。Accelry’s的多范围的软件结合成一个集量子力学、分子力学、介观模型、分析工具模拟和统计相关为一体容易使用的建模环境。卓越的建立结构和可视化能力和分析、显示科学数据的工具支持了这些技术。;19;高指数晶面或称邻晶面;高米勒指数面;台面-台阶-扭折(Terrace-Ledge-Kink,TLK);TLK模型的STM图像;金刚石外表能的估算:;金刚石晶胞的晶格常数为0.3560nm。以(111)为解理面那么每边长为晶胞对角线的二分之一,即:
(0.3560/21/2)=0.2517nm
四边形的面积为:0.25172x31/2/2=0.05487nm2,那么每平方厘米面积上有1.827x1015个原子,即断键数。
由金刚石晶胞的键能为376.6kJmol-1;以(111)为解理面0K温度时金刚石的外表能为:;晶体外表能各向异形与Wulff图;晶体外表能各向异性的Wulff图。(a),(b)二维正方晶体的a随q的变化;(c)三维立方晶体;(d)考虑次近邻后的结果;晶体外形的一般定那么:;结合能是使固体束缚的原子间相互作用能量,它的大小与升华热〔固体转变为气体〕或气化潜热〔液体转变为气体〕几乎相同。〔可测量量〕
升华热对应于将原子由体内移出需要的能量?断键数
外表能对应于截断有关键能,产生两个新外表需要的能量?断键数
?从升华热估算外表能;结合能;外表弛豫和再构;系统稳定要求dF=0,所以在恒定T,V的条件下;g(hkl);弛豫(Relaxation);再构(Reconstruction);再构外表和吸附外表的标记;Si(111)-7x7外表;位错线;Si(111)-(7x7)增原子的STM像;;Si(111)-(2x1)再构;Si(110)缺列再构;相对稳定的外表,外表经常吸附H,H可以用电子束剥离(比方STM探针);Si(001)-(2x1);GaAs(110)理想/驰豫外表;外表再构随温度的变化;Si(111)-(7x7)再构的反射式高能电子
衍射(RHEED);;Threemainprinciples
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