光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正当时，产业链迎突破黄金期(202504).pdfVIP

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电子行业深度研究

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业光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正

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2025年04月11日

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究【投资要点】

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告

光刻机为半导体制造核心设备，空间巨大、高度垄断。光刻工艺是半

导体制造最核心的工艺之一，光刻机也是技术壁垒最高、市场空间最

大的细分设备大类之一。根据AMAT资料，2023年全球957亿美元WFE

市场中，光刻机占比约26%、近250亿美元。而光刻机市场高度垄断，

荷兰ASML一家便占据绝大多数市场，尤其是在高端产品如EUV、ArFi

等领域呈绝对领先，此外日本Nikon、Canon也有一定市场份额。

光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进。光刻机对芯片的曝光效果

和大规模量产时的良率、效率都有着极为重要的影响，其首要的核心

指标是分辨率，以顺应摩尔定律，进而需要追求波长的缩短（光源）、

数值孔径NA的提高（物镜和浸没式）、k1因子的降低（照明条件、计

算光刻等），以及催生出了多重曝光技术。此外，光刻机的套刻精度

提高、产能提高也是持续迭代的重要方向。

核心子系统空间可观、供应链稳定集中。荷兰ASML公司2024年系统

销售成本为104亿欧元，上游采购空间巨大，其中核心子系统作用关

键，主要包括光源（ASML子公司Cymer垄断）、曝光光学系统（照明+

物镜，德国Zeiss为核心供应商）、工件台（整机厂商自研）。此外，

对准系统、环境控制系统、软件等也是光刻机不可或缺的重要组成。

国产化攻坚正当时，积极关注产业链公司。在外部贸易环境的不确定

性下，同时得益于国内下游土壤丰厚以及产业链自身技术突破，光刻

机产业链正面临着自主可控攻坚的紧要关头，整机及上游子系统/零

部件厂商将迎来国产化突破及加速的黄金发展期，建议关注细分环节

优质厂商茂莱光学、福晶科技、福光股份、菲利华等。

【风险提示】

国际局势等宏观因素影响需求复苏、关键技术突破不及预期、中美摩

擦加剧带来全球产业链重构。

正文目录

1.光刻机：晶圆制造核心卡脖子环节，市场空间巨大且高度垄断5

2.光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进7

2.1.分辨率：光刻机最核心的参数指标，遵循瑞利判据7

2.1.1.减小光源波长λ为光刻机最重要的技术演进方向8

2.1.2.提升数值孔径NA同样为光刻机的重要演进方向9

2.1.3.多措并举，降低k1因子10

2.1.4.多重曝光（Multi-patterning）技术13

2.2.套刻精度（Overlay）：影响成像效果和良率的重要因素15

2.3.产出（Throughput）：直接影响规模量产的效率和成本17