氧氮化铝粉体的制备工艺与影响因素的深度剖析.docx

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2025-06-18 发布于上海
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氧氮化铝粉体的制备工艺与影响因素的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

氧氮化铝（AlON）作为一种先进的陶瓷材料，由铝、氧和氮元素组成，具有一系列独特的物理和化学性质，使其在众多高科技和工业领域展现出广泛的应用潜力。在电子领域，随着电子设备不断向小型化、高集成度和高性能方向发展，对电子封装材料和散热材料的性能提出了更高要求。氧氮化铝具有高热导率、高电阻率、良好的电绝缘性以及与硅相匹配的热膨胀系数，能够有效解决电子器件在工作过程中的散热问题，提高器件的可靠性和寿命，因此成为新一代电子封装和热管理领域的理想材料。在5G通信基站、智能手机、计算机等高性能电子设备中，氧氮化铝的应用日益广