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中国专利密度的时空演变及其影响因素

摘要

在世界经济全球化的大背景下，科技进步日新月异，社会已经跨入知识经济的新时

代。要实现下一阶段高质量的经济增长，可持续的高水平科技创新是关键。科技创新的

过程中产生大量专利成果的同时，专利也在保护创新成果并激励创新活动。因此，专利

密度成为衡量区域创新能力的重要指标。为了精准制定政策，并持续提升我国的创新能

力，本文深入探究了目前的专利密度状况，细致分析和挖掘了影响专利密度的多重因素

及其深层次影响，对于推动我国经济高质量发展，具有极其重要的指导意义和参考价值。

本文通过回顾现有文献发现，我国专利申请分布呈现显著的区域聚集特征，但现有

研究集中于对专利数量的研究，而单纯以数量为研究对象时忽视了产业集中度和人口集

聚等关键因素的影响。对此，以专利密度为研究指标可以克服这一缺点，而当前关于专

利密度的研究大多围绕发明专利，而对实用新型和外观设计专利密度的分析及其影响因

素的研究则较为缺乏，并且对于专利密度影响因素的研究存在不足。鉴于此研究缺口，

本文深入探讨实用新型和外观设计专利密度及其影响因素，对于推动不同专利类型和区

域的均衡发展具有重要意义。本文以2011年至2022年间中国30个省市的人均专利申

请数作为评价指标，运用核密度估计和空间分析方法，定量分析不同专利类型的密度水

平和空间相关性，旨在揭示中国专利密度发展的时空演变特征。在此基础上，选取研发

投入强度、产业升级水平、政府科技支持水平、技术市场成交水平、外商直接投资水平

和区域发展水平等影响因素，采用面板回归模型对这些因素的影响以及在不同专利类型

中的影响差异进行实证分析。

本文的实证研究得出以下结论：第一，从专利申请密度来看，研发投入强度、产业

升级水平、政府科技支持水平、技术市场成交水平和外商直接投资水平均具有显著的正

向影响，而区域发展水平的影响不显著。第二，在发明专利密度方面，中国发明专利密

度稳步增长，但增速下降且地区差异逐渐减少，空间上北京和江浙沪地区为热点地区。

研发投入强度、产业升级水平、政府科技支持水平和技术成交占比对发明专利密度有显

著的正向影响，外商直接投资水平和区域发展水平的影响不显著。第三，实用新型专利

密度也呈现缓慢增长、地区差异减少的特征，北京和上海地区为热点地区。研发投入强

度、政府科技支持水平对实用新型专利密度有显著的正向影响。第四，外观设计专利密

度的申请占比逐年下降，并呈现多级分级特征，地理上集中于东部地区，并逐渐向南转

移。外观设计专利密度与产业升级水平、政府科技支持水平、技术市场成交水平以及外

商直接投资水平之间存在显著的正相关。第五，中部和西部地区在专利申请密度增长的

主要影响因素上具有共同点，即政府科技支持和技术市场成交水平均发挥重要作用。对

于中部和西部地区，区域发展水平的提升对专利申请密度产生显著的正向影响，表明经

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摘要

济发展有助于专利活动的增加。

基于本研究结论，本文建议采取以下政策措施：第一，为提升整体专利密度，政府

应增强对创新活动的支持，加大科技资源的投入，强化对科学技术领域的公共财政支持，

确保创新研发的资金充足。同时，制定科学合理的政策，吸引并集聚创新人才和资金，

为创新驱动发展注入强大动力。第二，针对发明专利密度，应提高技术深度和创新能力

认可度，加大研发投入强度，激励创新活动，促进技术市场活跃度，并支持建立跨区域

乃至跨境的专业化技术交易体系。第三，保持现有的研发投入强度，以促进实用新型专

利密度的持续增长，深度挖掘其潜力，形成与发明专利的互补优势。第四，为提高外观

设计专利密度，应提升公众对外观设计专利及其价值的认识，激励专利申请；同时政府

应完善技术市场体系，提供专业知识产权服务，降低技术交易成本和风险，以促进外观

设计专利的市场成交量。第五，对于中部和西部地区，需要持续推动区域经济的发展。

结合地区特色，发展优势产业，提升区域经济发展水平，以此带动专利密度的增长。

关键词：专利密度；核密度估计；时空演变；面板数据模型

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