高分辨透射电子显微学-基本原理和应用技术-天津大学.doc

高分辨透射电子显微学基本原理和应用技术

分析中心崔兰林奎郭前进

内容

1

1电子显微像的特点

2高分辨透射电子显微像基本原理

3高分辨透射电子显微像应用技术

3高分辨透射电子显微像应用技术

一.电子显微像的特点

2一.

2

一.电子显微像的特点

Abbe

Abbe

成像原理

2

2

恩斯特

恩斯特·卡尔·阿贝（ErnstKarlAbbe)。德国物理学家

,光学家

,光学家。

是卡尔

是卡尔·蔡司

的合作人。

①可见光波显微镜分辨本领的极限，②波动光学中的两步成像理论。他的两项重要贡献为：

①可见光波显微镜分辨本领的极限，②波动光学中的两步成像理论。

一.电子显微像的特点

l光学显微镜的像.

成像过程：物表面对光的吸收和反射，直接成像。

l电子显微像比较复杂，

电子束

样品

样品

物镜光镧

衍射束透射束

l它们的振幅和相位都发生了变化。依照选取成像信息的不同，所获得的电子显微像的衬度出现了不同机制。

电子显微像衬度的种类

电子显微像衬度

振幅衬度单束，无干涉成像

振幅衬度

单束，无干涉成像

两束或以上，干涉成像

衍射衬度薄晶（多晶膜）试样

衍射衬度

薄晶（多晶膜）试样

适用于非晶或晶粒小的样品

明场像暗场像

明场像

明、暗场像

质厚衬度

催化剂C-PtCNT

质厚衬度

衍射衬度

衍衬像(DiffractionContrastImage)

利用晶体试样中由于不同取向的产生衍射差异产生衍衬像,透射束成明场像,选择不同的衍射束成暗场像。

位错的观察证实了位错理论的正确性

二.高分辨透射电子显微像基本原理

什么是高分辨（HRTEM）？

l以分辨定义并不完美（1nm还是0.1nm?）

l可直接看到原子结构不是正确的定义；

l仅相位衬度像亦不妥；

l更正确的定义：

---多电子束的干涉条纹

多束

?指电子散射的状况

?比较传统“单束”的衍射衬度技术

电子束

晶体

明场

多束

?注意：非晶体和多晶体也可以产生多束

多晶体非晶体

多晶体

非晶体

5nm

一维条纹

双束或者处在一维的多束产生一维的条纹

l一维条纹反映晶体的这个方向的周期

l条纹不一定正好坐在原子面的位置，而且会随离焦量而位移

l一般来讲，不存在条纹与原子面之间的对应关系,但破坏周期性的

晶格缺陷可以被直接观察到

二维晶格像

?晶体在某低指数带轴

?使用较大的物镜光阑或根本不使用光阑

?二维晶格像晶体二维平移周期信息

晶体

晶体

HRTEMimagesfromtheSrTiO3

bi-crystalboundary.

波

?电子束是波故具有振幅和相位（amplitudeandphase)

?波的周期是波长（如200kV下0.0025nm)或以2π相位为单位?平面波表达为

只有强度（正比于振幅的平方A2）可被记录到

振幅波长λ2π

振幅

波长

λ

位置或时间

相位

两个波的叠合强度

?相干(coherent)与非相干(incoherent)

?如果同相位（相位差0），叠合强度增到一个单独波强度的四倍（（2A）2=4A2）——两波相互增强

?如果反相位（相位差π),叠合强度为零——两波相互消弱

相长干涉

相消干涉

干涉（interference）

?只有对相干波，才遵循前述的叠加原理

?非相干波的叠加结果只是强度的叠加

?相干叠加的结果，会产生干涉条纹

?亮暗的位置由相位差决定

相干（coherence）

?两只独立的光源不可能是相干的

?从一相干（单色平行）光源分离出的两束（或多束）光是相干的

电子波

?理想的电子光源是完全相干的

?实际的电子光源是部分相干（partialcoherent）

?判断相干性的准则：

-空间相干性（平行度）,相干宽度

-时间相干性（单色性）,相干长度

?由样品的散射/衍射，即从入射束分离出的电子束也是部分相干的

相干性决定了干涉条纹的质量

电子波

?电子源的相干性

电子源能量分布

电子源能量分布0.7～2.4ev0.5～2.0ev0.2～0.4ev

电子源尺寸

电子源尺寸30～100μm5～50μm＜10nm

TungstenLaB6