光场成像关键技术：消色差与视角标定方法的深度剖析与创新探索.docx

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2025-06-21 发布于上海
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光场成像关键技术：消色差与视角标定方法的深度剖析与创新探索

一、引言

1.1研究背景与意义

随着科技的飞速发展，成像技术在众多领域发挥着愈发关键的作用，从日常生活中的摄影摄像，到工业生产中的检测、医学领域的诊断、科学研究中的观测分析等，都离不开成像技术的支持。传统成像技术主要聚焦于记录光线的强度信息，在面对复杂场景时，其对三维空间信息的记录和处理能力存在明显局限。为了突破这一困境，光场成像技术应运而生。

光场成像技术兴起于20世纪90年代，早期主要集中于概念和理论基础的研究。随着光学、电子学以及计算机技术的持续进步，该技术逐渐从理论走向实际应用。光场成像技术，又被称作全光函数成像或四