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光栅刻划机虚拟样机技术：原理、应用与创新发展

一、引言

1.1研究背景与意义

在光电子信息、光栅光谱、微纳加工等众多关键领域，光栅刻划机作为一种核心技术设备，发挥着不可替代的重要作用。光栅刻划机通过精确的机械运动，在光栅基底上刻划出一系列具有特定形状和间距的刻槽，从而制造出用于分光、滤波、传感等多种功能的光栅元件。这些光栅元件广泛应用于各类光学仪器和设备中，是实现光信号处理、分析和传输的基础。在光谱仪中，光栅用于将复合光分解为单色光，从而实现对物质成分和结构的分析；在光通信系统中，光栅可用于波长选择和光信号的复用与解复用，提高通信容量和效率；在微纳加工领域，光栅作为掩模或模板，可用于制造微纳