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超声辅助光催化技术在单晶碳化硅抛光中的应用机理研究

目录

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

1.1.1单晶碳化硅材料的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

1.1.2单晶碳化硅抛光技术挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

1.1.3超声辅助光催化技术的潜在应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

1.2.1单晶碳化硅抛光技术研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

1.2.2超声辅助光催化技术的研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

1.2.3两者结合的研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

1.3研究内容与目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

1.3.1主要研究内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

1.3.2具体研究目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

1.4研究方法与技术路线．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

1.4.1研究方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

1.4.2技术路线．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

超声辅助光催化抛光机理理论基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

2.1单晶碳化硅材料特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

2.1.1物理化学性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

2.1.2磨削损伤机理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

2.2超声空化效应．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

2.2.1超声空化现象．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

2.2.2空化泡的形成与溃灭．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

2.2.3空化作用对材料去除的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35

2.3光催化作用原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

2.3.1光催化剂的种类与特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37

2.3.2光催化反应机理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39

2.3.3光催化对表面污染物的作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41

2.4超声辅助光催化抛光相互作用机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42

2.4.1超声空化对光催化剂的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43

2.4.2光催化对超声空化作用的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

2.4.3三者协同作用机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45

超声辅助光催化抛光实验研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48

3.1实验材料与设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48

3.1.1实验材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．50

3.1.2实验设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51

3.2实验方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．53

3.2.1抛光工艺参数设置．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54

3.2.2表面形貌测试方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．