光诱导介电泳芯片：磁控溅射制备工艺与多维度表征分析.docx

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2025-07-08 发布于上海
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光诱导介电泳芯片：磁控溅射制备工艺与多维度表征分析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技发展的浪潮中，微流控技术作为多学科交叉的前沿领域，正以前所未有的速度推动着生物、医学等众多领域的变革与创新。介电泳芯片作为微流控技术的关键组成部分，在生物检测、药物筛选、细胞操控等方面展现出巨大的应用潜力，成为了科研人员关注的焦点。传统的介电泳芯片主要依赖于物理电极来产生非均匀电场，实现对微粒的操控。然而，这种方式存在诸多局限性，例如电极制作工艺复杂，需要高精度的光刻、刻蚀等微加工技术，成本高昂且耗时；物理电极一旦制作完成，其结构和布局便固定下来，难以根据实验需求进行灵活调整，限制了对不同微粒操控场