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情境七:气相色谱分析法的应用任务二:了解气相色谱基本理论知识点:速率理论课程:仪器分析
速率理论1、色谱动力学理论——范蒂姆特方程2、涡流扩散项3、分子扩散项4、传质阻力项
一、色谱动力学理论—范蒂姆特方程?塔板理论基本假设:速率理论指出填充柱的柱效受分子扩散、传质阻力、载气流速等因素的影响,从而较好地解释了影响色谱柱效能的各种因素。色谱过程的动力学理论可以概括为速率理论方程(范式方程):式中,H为塔板高度;A称为涡流扩散项;B/u称为纵向扩散项(分子扩散项);B为纵向扩散系数;Cu称为传质阻力项;C为传质阻力系数;u是载气的线速度。当u一定时,只有当A、B、C均较小,H才能小,柱效才会高。
二、涡流扩散项?涡流扩散项A:由上式可见,A与色谱柱填充方式的不均匀因子λ和填充物的平均颗粒直径dp有关,与流动相的性质,线速度和组分性质无关,使用粒度细和颗粒均匀的填料,均匀填充,可以减小涡流扩散,提高柱效。
三、分子扩散项?分子扩散项B/u:也称为纵向扩散项。纵向扩散使色谱峰扩张。B称为分子扩散系数影响分子扩散项的因素有弯曲因子和组分在气相中的扩散系数。为了减小分子扩散项,可采用较高的载气流速,使用相对分子质量较大的载气,控制较低的柱温。
四、传质阻力项?传质阻力项Cu:包括气相传质阻力系数Cg和液相传质阻力系数Cl。气相传质阻力与填充物颗粒直径的平方成正比,与组分在载气流中的扩散系数成反比。液相传质阻力与固定液的液膜厚度和组分在液相中的扩散系数有关。除上述造成谱峰扩宽的因素外,还应该考虑柱内径,柱长等因素。
知识点学习结束
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