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磁控溅射TaCr合金涂层及性能研究

一、引言

随着科技的不断进步和工业应用的不断扩展，对于材料表面的性能要求也越来越高。TaCr合金因其优良的耐腐蚀性、高硬度及良好的热稳定性等特点，被广泛应用于航空、电子封装等重要领域。而磁控溅射技术作为一种高效的涂层制备技术，因其可以制备出具有优良性能的涂层而备受关注。本文将就磁控溅射制备TaCr合金涂层及其性能进行研究，为相关领域的应用提供理论支持。

二、磁控溅射技术概述

磁控溅射技术是一种物理气相沉积技术，通过在靶材表面施加磁场，利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子或分子溅射出来并沉积在基材表面，从而形成涂层。磁控溅射技术具有涂层均匀、结合力强、工