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薄膜材料技术试题及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）

1.以下哪种方法不属于物理气相沉积（PVD）技术？

A.磁控溅射

B.化学气相沉积（CVD）

C.蒸发镀膜

D.离子镀

答案：B。解析：化学气相沉积（CVD）是通过化学反应来沉积薄膜，属于化学方法，而磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀都属于物理气相沉积技术。

2.薄膜的厚度对其性能有重要影响，测量薄膜厚度常用的方法是？

A.光谱椭偏仪法

B.滴定法

C.重量法

D.比色法

答案：A。解析：光谱椭偏仪法是测量薄膜厚度的常用方法，滴定法常用于分析化学中测定物质含量，重量法是通过称量物质的重量来分析，比色法是基于比较溶液颜色深浅来测定物质浓度。

3.磁控溅射过程中，溅射粒子的能量主要来源于？

A.靶材原子的热运动

B.等离子体中离子对靶材的轰击

C.电子的碰撞

D.气体分子的散射

答案：B。解析：在磁控溅射中，等离子体中的离子被加速后轰击靶材，使靶材原子获得能量而溅射出来，所以溅射粒子的能量主要来源于等离子体中离子对靶材的轰击。

4.化学气相沉积中，反应气体的流量会影响薄膜的？

A.颜色

B.密度

C.沉积速率和质量

D.透明度

答案：C。解析：反应气体流量会影响反应的进行程度，从而影响薄膜的沉积速率和质量，而颜色、密度、透明度受多种因素综合影响，气体流量不是主要影响因素。

5.制备纳米薄膜时，为了获得均匀的纳米结构，常采用的技术是？

A.脉冲激光沉积

B.电镀法

C.热喷涂法

D.刷涂法

答案：A。解析：脉冲激光沉积可以精确控制沉积过程，有利于获得均匀的纳米结构；电镀法常用于金属沉积，热喷涂法主要用于制备较厚涂层，刷涂法难以实现纳米级的均匀结构。

6.薄膜的附着力是一个重要性能指标，提高薄膜附着力的方法不包括？

A.对基底进行表面处理

B.增加薄膜厚度

C.优化沉积工艺参数

D.引入过渡层

答案：B。解析：对基底进行表面处理可以改善基底表面状态，优化沉积工艺参数能使薄膜与基底更好结合，引入过渡层可增强结合力；而增加薄膜厚度并不能直接提高薄膜的附着力。

7.在光学薄膜中，增透膜的原理是？

A.光的干涉相消

B.光的反射

C.光的折射

D.光的散射

答案：A。解析：增透膜是利用光的干涉相消原理，使反射光相互抵消，从而增加透过光的强度。

8.以下哪种薄膜材料常用于微电子领域的绝缘层？

A.二氧化硅

B.铜

C.铝

D.银

答案：A。解析：二氧化硅具有良好的绝缘性能，常用于微电子领域的绝缘层；铜、铝、银是良好的导体，常用于制作导线等导电部件。

9.物理气相沉积中，真空度对薄膜质量有重要影响，一般要求的真空度是？

A.低真空（1010?1Pa）

B.中真空（10?110??Pa）

C.高真空（10??10??Pa）

D.超高真空（10??Pa）

答案：C。解析：在物理气相沉积中，高真空（10??10??Pa）可以减少杂质气体的影响，有利于获得高质量的薄膜。

10.制备铁电薄膜时，为了保证铁电性能，关键的工艺因素是？

A.薄膜的厚度

B.沉积时的温度

C.基底的形状

D.反应气体的种类

答案：B。解析：沉积时的温度对铁电薄膜的晶体结构和取向有重要影响，从而影响其铁电性能；薄膜厚度、基底形状、反应气体种类也有一定影响，但不是关键因素。

二、多项选择题（每题3分，共15分）

1.以下属于薄膜材料的有？

A.光学眼镜上的镀膜

B.建筑玻璃上的隔热膜

C.手机屏幕上的钢化膜

D.纸张表面的涂层

答案：ABCD。解析：光学眼镜上的镀膜、建筑玻璃上的隔热膜、手机屏幕上的钢化膜、纸张表面的涂层都属于不同类型的薄膜材料。

2.物理气相沉积的优点包括？

A.沉积温度低

B.薄膜纯度高

C.可精确控制薄膜成分和厚度

D.设备简单，成本低

答案：ABC。解析：物理气相沉积沉积温度低，能减少对基底的影响；可以在高真空环境下进行，薄膜纯度高；通过精确控制工艺参数可精确控制薄膜成分和厚度；但其设备复杂，成本较高。

3.影响化学气相沉积薄膜质量的因素有？

A.反应气体的流量和比例

B.反应温度

C.沉积时间

D.基底的表面性质

答案：ABCD。解析：反应气体的流量和比例影响反应的进行和薄膜的成分，反应温度影响反应速率和薄膜的结构，沉积时间影响薄膜的厚度，基底的表面性质影响薄膜的附着力和生长情况。

4.提高薄膜硬度的方法有？

A.选择硬度高的材料

B.引入纳米结构

C.进行热处理

D.增加薄膜的粗糙度

答案：ABC。解析：选择硬度高的材料是直接提高薄膜硬度的方法；引入纳米结构可通过细晶强化等机制提高硬度；热处理可以改善薄膜的组织结构，提高硬度；增加薄