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****************6.3其他表面处理技术一、热喷涂电热法燃气法根据所用热源的不同来分类激光热源法气体放电法第30页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术一、热喷涂热喷涂技术具有如下特点：2134方法多样。可喷涂材料极为广泛。涂层广泛。工件不受限制。第31页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术一、热喷涂热喷涂技术具有如下特点：65涂层厚度可以控制。工艺简便且不受工件限制。第32页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术二、激光表面处理激光表面处理的特点有：(2)能量利用率高，加热极为迅速并靠自激冷冷却。(1)能量集中，可对工件表面实行选择性处理。第33页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术二、激光表面处理激光表面处理的特点有：(4)利用高能束可以对材料的表面实现相变硬化、微晶化、冲击加热硬化、覆层镀层合金化等多种表面改性处理，可产生用其他表面加热处理淬火强化难以达到的表面成分、组织、性能的改变。(3)畸变极小，可大大减少后续加工工时。第34页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术二、激光表面处理图6-5激光表面处理装置示意图第35页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术三、离子注入图6-6离子注入装置示意图第36页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术三、离子注入离子注入技术与气相沉积、等离子喷涂、电子束和激光束热处理等表面处理工艺不同，其主要特点是：(1)离子注入是一个非热平衡过程，注入离子的能量很高，可以高出热平衡能量的2～3个数量级。原则上，元素周期表上的任何元素都可注入任何基体材料。(2)注入元素的种类、能量、剂量均可选择，用这种方法形成的表面合金，不受扩散和溶解度的经典热力学参数的限制，即可得到用其他方法得不到的新合金。第37页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术三、离子注入离子注入技术与气相沉积、等离子喷涂、电子束和激光束热处理等表面处理工艺不同，其主要特点是：(3)离子注入层相对于基体材料没有边缘清晰的界面，因此表面不存在粘附破裂或剥落的问题，与基体结合牢固。(4)离子注入控制电参量，故易于精确控制注入离子的密度分布，浓度分布可以通过改变注入能量加以控制。第38页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术三、离子注入离子注入技术与气相沉积、等离子喷涂、电子束和激光束热处理等表面处理工艺不同，其主要特点是：(5)离子注入一般是在常温真空中进行，加工后的工件表面无形变，无氧化，能保持原有尺寸精度和表面粗糙度，特别适于高精密部件的最后工序。(6)可有选择地改变基体材料的表面能量，并在表面内形成压应力。第39页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术四、气相沉积物理气相沉积(PVD)化学气相沉积(CVD)按照过程的本质第40页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术四、气相沉积(1)涂层具有很高的硬度(TiC为3?200～4?100HV，TiN为2?450HV)、低的摩擦系数和自润滑性能，所以抗磨损性能良好。(2)涂层具有很高的熔点(TiC为3160℃，TiN为2?950℃)，化学稳定性好，具有很好的抗粘着磨损能力，发生冷焊和咬合的倾向很小。(3)涂层具有较强的抗腐蚀能力。(4)涂层在高温下也具有良好的抗氧化能力。第41页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术四、气相沉积(一)化学气相沉积(2)吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。(1)反应气体向工件表面扩散并被吸附。(3)生成物质点聚集成晶核并增大。第42页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术四、气相沉积(一)化学气相沉积(5)沉积层与基体的界面发生元素的互扩散，形成镀层。(4)表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。第43页，共45页，星期日，2025年，2月5日*6.3其他表面处理技术四、气相沉积(二)物理气相沉积物理气相沉积(简称PVD)是将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发(或称溅射)，使这些气相原子或分子在一定条件下沉积在工件表面上的工艺。第44页，共