2025年GAAFET工艺研发进展与高性能计算设备性能提升研究.docx

2025年GAAFET工艺研发进展与高性能计算设备性能提升研究范文参考

一、GAAFET工艺概述

1.GAAFET工艺的原理及优势

1.1更高的电子迁移率

1.2更低的阈值电压

1.3更高的晶体管密度

2.GAAFET工艺的研发进展

2.1材料与器件制备技术

2.2晶体管结构优化

2.3电路设计

3.GAAFET工艺在高性能计算设备性能提升方面的作用

3.1提高计算速度

3.2降低功耗

3.3提高集成度

二、GAAFET工艺在半导体器件中的应用与挑战

2.1GAAFET工艺在半导体器件中的应用

2.2GAAFET工艺在半导体器件中的应用挑战

2.3GAAFET工艺