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二氧化硅修饰石墨烯增强绝缘导热环氧树脂纳米复合材料的制备与性能研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今数字化时代,电子设备的性能不断提升,尺寸却日益小型化,这使得设备在运行过程中产生的热量急剧增加。例如,高性能计算机的中央处理器(CPU)在高负载运行时,温度可飙升至近百度,智能手机在长时间玩游戏或进行多任务处理时,机身也会明显发热。过热问题不仅会降低电子设备的运行稳定性和可靠性,还可能导致设备寿命大幅缩短。据相关研究表明,电子设备的温度每升高10℃,其可靠性就会下降约50%。因此,高效的散热技术已成为电子设备发展的关键瓶颈之一,迫切需要开发高性能的散热材料来满足日益增长的散热需求。
环氧树脂基复合材料因具有优异的绝缘性、良好的加工性能、较高的机械强度以及成本相对较低等诸多优点,在电子封装、散热基板等领域得到了极为广泛的应用。然而,环氧树脂本身属于热的不良导体,其室温导热系数仅约为0.2W?m?1?K?1,这严重限制了其在高功率电子设备散热方面的应用效果。为了有效提高环氧树脂基复合材料的导热性能,科研人员通常会在其中添加高导热填料,如金属材料(银、铜、铝等)、陶瓷材料(氮化硼、氧化铝、碳化硅等)以及碳材料(石墨烯、金刚石、碳纤维等)。在众多高导热填料中,石墨烯凭借其超高的理论热导率(高达5300W?m?1?K?1)、出色的力学性能和良好的化学稳定性等优势,成为了提升环氧树脂基复合材料导热性能的理想选择。
然而,由于石墨烯具有较大的比表面积和较强的π-π堆积作用,在环氧树脂基体中极易发生团聚现象,这会导致其在基体中的分散性较差,进而无法充分发挥其优异的导热性能。为了解决这一问题,对石墨烯进行表面修饰成为了关键手段。其中,二氧化硅修饰石墨烯是一种非常有效的方法。二氧化硅具有良好的绝缘性、化学稳定性和低介电常数,将其修饰在石墨烯表面,不仅可以有效改善石墨烯在环氧树脂基体中的分散性,还能进一步提高复合材料的绝缘性能和综合性能。通过二氧化硅的修饰,石墨烯与环氧树脂之间的界面相容性得到显著增强,使得复合材料在保持良好绝缘性能的同时,能够构建更加有效的导热通路,从而大幅提升其导热性能。
本研究聚焦于二氧化硅修饰石墨烯及其绝缘导热环氧树脂纳米复合材料,具有重要的理论意义和实际应用价值。在理论层面,深入探究二氧化硅修饰石墨烯对环氧树脂纳米复合材料绝缘和导热性能的影响机制,有助于丰富和完善复合材料的结构与性能关系理论,为新型高性能复合材料的设计和开发提供坚实的理论基础。在实际应用方面,研发出的高性能绝缘导热环氧树脂纳米复合材料有望广泛应用于电子封装、散热基板、集成电路等领域,有效解决电子设备的散热难题,提高设备的运行稳定性和可靠性,推动电子行业的快速发展。此外,该研究成果还可能在航空航天、汽车电子等对材料性能要求极高的领域展现出潜在的应用前景,为相关领域的技术创新提供新的材料解决方案。
1.2国内外研究现状
1.2.1二氧化硅修饰石墨烯的研究现状
近年来,二氧化硅修饰石墨烯的研究在国内外都取得了显著进展。在制备方法上,化学气相沉积法(CVD)、溶胶-凝胶法、原位聚合法等被广泛探索。CVD法可在石墨烯表面均匀沉积二氧化硅,能精确控制二氧化硅的厚度和质量,从而制备出高质量的二氧化硅修饰石墨烯。溶胶-凝胶法则操作相对简便,成本较低,通过控制前驱体的水解和缩聚过程,可实现二氧化硅在石墨烯表面的修饰。
在结构与性能研究方面,大量研究聚焦于二氧化硅修饰对石墨烯结构和性能的影响。二氧化硅的修饰改变了石墨烯的表面性质,使其表面由疏水变为亲水,这不仅有利于石墨烯在极性溶剂中的分散,还能增强其与极性聚合物基体的相容性。在电学性能上,适度的二氧化硅修饰对石墨烯的电学性能影响较小,同时显著提升了其稳定性,拓宽了石墨烯在电子器件领域的应用范围。在光学性能方面,修饰后的石墨烯展现出独特的光学特性,在光电器件、生物成像等领域具有潜在应用价值。
国外在二氧化硅修饰石墨烯的基础研究和应用探索方面起步较早。美国的一些科研团队在利用CVD法制备高质量二氧化硅修饰石墨烯方面处于领先地位,深入研究了其在高速电子器件中的应用。欧洲的科研人员则侧重于探索二氧化硅修饰石墨烯在能源存储和转换领域的应用,如在超级电容器和锂离子电池中的应用研究。
国内的研究也发展迅速,众多高校和科研机构在该领域取得了一系列成果。如中国科学院的研究团队在溶胶-凝胶法制备二氧化硅修饰石墨烯方面进行了创新,提高了制备效率和产品质量。国内学者还积极开展二氧化硅修饰石墨烯在生物医学、环境保护等领域的应用研究,拓展了其应用领域。然而,目前仍存在一些问题有待解决。例如,在大规模制备方面,现有的制备方法难以兼顾成本、效率和质量,限制了二氧化硅修饰石墨烯
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