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电子真空镀膜工抗压考核试卷及答案

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电子真空镀膜工抗压考核试卷及答案

考生姓名：答题日期：判卷人：得分：

题型

单项选择题

多选题

填空题

判断题

主观题

案例题

得分

本次考核旨在检验学员对电子真空镀膜工抗压技术的掌握程度，包括镀膜工艺流程、材料选择、设备操作及故障处理等方面，确保学员能够胜任实际工作中的抗压要求。

一、单项选择题（本题共30小题，每小题0.5分，共15分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

1.电子真空镀膜过程中，用于产生真空的泵通常是（）。

A.循环水冷泵

B.离心泵

C.真空泵

D.气体压缩泵

2.真空镀膜时，为了提高膜层的附着力，通常会在基板上涂抹（）。

A.硅胶

B.玻璃胶

C.水性胶

D.热熔胶

3.在真空镀膜中，下列哪种材料最适合作为阳极（）？

A.铝

B.镁

C.钛

D.钙

4.真空镀膜过程中，如果发现膜层出现气泡，可能的原因是（）。

A.真空度不足

B.阳极电流过大

C.基板清洁度不够

D.镀膜时间过长

5.电子真空镀膜设备中，用于控制真空度的仪表是（）。

A.真空计

B.温度计

C.电流计

D.压力计

6.真空镀膜过程中，为了防止膜层氧化，通常需要在镀膜室内充入（）。

A.氮气

B.氧气

C.氩气

D.空气

7.下列哪种镀膜工艺适用于大面积基板（）？

A.磁控溅射

B.真空蒸发

C.脉冲溅射

D.化学气相沉积

8.真空镀膜时，为了提高膜层的均匀性，应（）。

A.保持高真空度

B.适当增加基板旋转速度

C.减少基板与靶材的距离

D.降低阳极电流

9.下列哪种镀膜工艺适用于多层膜结构（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.阳极氧化

10.真空镀膜过程中，如果发现膜层颜色不均匀，可能的原因是（）。

A.真空度波动

B.靶材纯度不高

C.基板温度不均

D.镀膜时间不充分

11.下列哪种镀膜工艺适用于高速生产（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.溅射镀膜

12.真空镀膜时，为了保证膜层质量，应（）。

A.使用低纯度靶材

B.保持镀膜室内清洁

C.镀膜过程中频繁开启真空泵

D.使用高电流密度

13.下列哪种镀膜工艺适用于镀制透明膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

14.真空镀膜过程中，如果发现膜层出现条纹，可能的原因是（）。

A.真空度波动

B.靶材表面不平

C.基板振动

D.镀膜时间不足

15.下列哪种镀膜工艺适用于镀制超硬膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

16.真空镀膜时，为了保证膜层的厚度均匀，应（）。

A.保持高真空度

B.增加基板与靶材的距离

C.适当增加基板旋转速度

D.减少阳极电流

17.下列哪种镀膜工艺适用于镀制导电膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

18.真空镀膜过程中，如果发现膜层出现裂纹，可能的原因是（）。

A.真空度波动

B.靶材表面污染

C.基板温度过高

D.镀膜时间过长

19.下列哪种镀膜工艺适用于镀制反射膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

20.真空镀膜时，为了保证膜层的透明度，应（）。

A.使用高纯度靶材

B.降低基板温度

C.减少基板与靶材的距离

D.增加阳极电流

21.下列哪种镀膜工艺适用于镀制耐磨膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

22.真空镀膜过程中，如果发现膜层出现雾状，可能的原因是（）。

A.真空度波动

B.靶材表面污染

C.基板温度过低

D.镀膜时间不足

23.下列哪种镀膜工艺适用于镀制抗反射膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

24.真空镀膜时，为了保证膜层的附着力，应（）。

A.使用低纯度靶材

B.提高基板温度

C.减少基板与靶材的距离

D.降低阳极电流

25.下列哪种镀膜工艺适用于镀制防护膜（）？

A.真空蒸发

B.磁控溅射

C.化学气相沉积

D.离子束镀膜

26.真空镀膜过程中，如果发现膜层出现色差，可能的原因是（）。

A.真空度波动

B.靶材成分不纯