第6章-光敏高分子材料.pptVIP

您知道涂料的成分吗？;第六章;◆如果吸光后发生化学变化，导致光聚合、光交联、光降解反应，高分子材料的溶解性发生变化，可制备什么？;◆如果发生材料外观尺寸的变化，则形成光力学变化材料。;与高分子光敏材料有关的光化学反应有光交联（聚合）反应、光降解反应和光异构化反应。这些反应都可以使分子吸收光能后发生能量转移，产生化学反应。;当聚合物在光照下，通过光化学反应聚合或交联，迅速固化，从而达到保护或美化材料表面的一种涂料。;4、高分子荧光或夜光材料：光照下，吸收光能以荧光或磷光的形式发出的高分子材料。

5、高分子光催化剂：吸收光能后能，把光能转变为化学能的装置，称为光能转换装置，其中本身不直接进行光能转换，但能够促进其它物质转换作用的高分子称为高分子光催化剂。

6、光能转换聚合物：吸收太阳能，并把太阳能转变为热能，电能或化学能等的一类高分子。;7、光导电聚合物：光照的前提下，外加电压时，导电性能显著变化的高分子化合物。

8、光致变色高分子材料：

9、高分子非线性光学材料：

10、高分子光力学材料：;光敏高分子的定义？

;特点：与普通涂料比较，因为不用大量溶剂挥发，

避免环境污染。固化时间短，涂层在粉刷后进行交

联等光化学反应，则可以得到交联度高，机械强度

大的涂层。

光敏涂料添加剂：交联剂，稀释剂，光敏剂或光引发剂，阻聚集和调色剂等。

分子量要求一般为1000—5000。是低聚合物。;水性聚氨酯防水涂料(WPU)

产品无毒无味，具有良好的粘结和不透水性，对砂浆水泥基石面和石材，金属制品都有很强的粘附力，产品的化学性质稳定，能长期经受日光的照射，强度高，延伸率大，弹性好，防水效果好。;目前光敏涂料除多用于建筑材料（包括木材），金属材料等的涂料外，还用于液晶显示器以及电子元件的封装等等。;2。不饱和聚酯;具有粘接力强，耐磨等特点。但是，紫外光的作用下颜色发生变化（变黄）。一般用含羟基的丙烯酸（或甲基丙烯酸）与多元异氰酸酯反应得到预聚合体。;是一种低粘度涂料。价格低。合成一般环氧化合物和多元醇???聚而成。如：;按性能分类，可分为正胶和负胶。

正胶：经过光照后溶解性增大。

负胶：经过光照后溶解性降低。;主要用途：在集成电路制造中，半导体氧化层中许

多地方要除去，部分地方要留下。一般采用化学

腐蚀法。这样根据事先设计好的图按，利用适当

的光敏高分子胶可以保护或破坏被涂半导体层进

行化学腐蚀，可以达到保留或除去的目的。这种

技术目前在电子工业中起着重要的作用。;光刻胶的作用原理如下：;1.常用的负性抗蚀剂（光刻胶）;除以上的聚合物以外，还有聚乙烯氧肉桂酸乙酯，聚对亚苯基二丙烯酸酯，聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯等等。

除均聚化合物外，还有共聚光刻胶，如：二乙烯苯，N,N-亚甲基双丙烯酰胺，双丙烯酸乙二醇酯和安息香酶酯等配制二成的负性光刻胶等。;2.正性抗蚀剂（光刻胶）;2.正性抗蚀剂（光刻胶）;早期应用的正胶为：连接有邻重氮萘醌结构的线形酚醛树脂。认为感光后侧链上的邻重氮萘醌脱落，生成在碱性溶液中可溶的黄酸基化合物。

近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化。;近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化;甲基丙烯酸甲酯-对甲氧苯基异丙基酮共聚物，波长范围220~360nm。;因为紫外光扩散时，有光的绕射，则一般使用波长在350~450nm的光源，只能加工成线宽为1微米的集成电路。为了得到微米以下线宽的集成电路，最近使用能量更高的辐射源，如：电子和X-射线等。由于它们能量高，高分子中不需要有发色团也能够较稳定的化学键断裂，得到更显著的溶解性差别，并且能够得到准确度更高的集成电路刻线。;第二节小结;第三节高分子光稳定剂;;高分子材料的光化学老化比较复杂，影响因素也较多，下面只讨论较典型一些光化学老化过程以及一些光化学稳定剂。;太阳光是影响光老化的主要因素，太阳光经大气层滤过到地面的波长范围为290-3000nm之间。太阳光主要包含光线组成为：紫外光10%，可见光50%，红外光40%。其中紫外光虽然占的比列不大，但是能量较高，则对高分子老化影响最大。可见光对光降解反应的影响较小，红外光虽然能量较低，但是高分子吸收红外光后温度提高，促使光降解反应。;影响光降解反应的主要因素处波长外，还有吸光度与激发态分子的能量转化过程也有较大的影响。一般光降解程度由光降解量子数（ф）表示：;常见的一些高分子的光老化波长和光降解量