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纳米材料制备技术学生期末题及答案
一、单项选择题（每题2分，共20分）
1.下列气相沉积技术中，属于物理气相沉积（PVD）的是：
A.化学气相沉积（CVD）
B.等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
C.磁控溅射
D.金属有机化学气相沉积（MOCVD）
2.溶胶-凝胶法制备纳米材料时，前驱体通常选择：
A.金属单质
B.金属盐类（如硝酸盐）
C.金属醇盐（如正硅酸乙酯）
D.金属氧化物
3.水热法制备纳米材料时，反应体系的温度范围一般为：
A.25-100℃
B.100-300℃
C.300-500℃
D.
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