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氮化钛薄膜制备工艺与光、电性能关联性研究

一、引言

1.1研究背景与意义

氮化钛（TiN）薄膜作为一种重要的过渡金属氮化物薄膜，凭借其独特的性能优势，在众多领域展现出巨大的应用潜力。从结构上看，氮化钛薄膜由离子键、金属键和共价键混合而成，这种特殊的化学键合方式赋予了它一系列优异的特性。

在物理性能方面，氮化钛薄膜具有高硬度的特点，其维氏硬度可达2000-2500HV，这使得它在切削工具领域发挥着关键作用。在金属切削过程中，刀具需要承受巨大的切削力和摩擦力，氮化钛薄膜涂层能够显著提高刀具的耐磨性，有效延长刀具的使用寿命。以高速钢刀具为例，未涂层的刀具在切削高强度钢材时，刃口容易磨损变钝，而涂覆氮化钛薄膜后，刀具的磨损速率大幅降低，切削性能得到明显提升。此外，氮化钛薄膜还具有高熔点，其熔点高达2930℃，这一特性使其在高温环境下依然能保持稳定的性能，适用于航空航天等领域中高温部件的防护涂层，如飞机发动机的燃烧室和喷嘴等部件，在高温、高压的恶劣工作条件下，氮化钛薄膜可以保护基体材料不被氧化和腐蚀，确保部件的正常运行。

从化学性能角度，氮化钛薄膜具有良好的化学稳定性和耐腐蚀性。在空气和氧化环境中，它不易发生氧化反应，能够长时间保持其物理和化学性能的稳定。在化学工业中，许多设备需要接触各种腐蚀性介质，如酸、碱等，氮化钛薄膜涂层可以有效地保护设备表面，防止腐蚀的发生，提高设备的使用寿命和可靠性。在电子器件领域，氮化钛薄膜还可用作扩散阻挡层，防止杂质原子的扩散，保证器件的性能和稳定性。

在电学性能方面，氮化钛薄膜具有金属键和共价键的混合特性，其电阻率约为20μΩ?cm，具备优良的导电性能。这使得它在微电子领域得到了广泛应用，例如作为有源器件和金属接点之间的导电阻挡层，不仅能够有效阻挡金属原子的扩散，还能形成良好的导电连接，确保电子器件的正常工作。在集成电路中，随着芯片尺寸的不断缩小，对导电材料的性能要求越来越高，氮化钛薄膜因其良好的导电性和稳定性，成为了满足这一需求的理想材料之一。

在光学性能方面，氮化钛薄膜在红外波段具有较高的光学反射率。这一特性使其在光学器件领域具有重要的应用价值，如可用于制作红外反射镜、光学滤波器等。在节能镀膜玻璃中，氮化钛薄膜可以作为低辐射涂层，有效阻挡红外线的传输，减少室内热量的散失，实现节能的目的。

尽管氮化钛薄膜在诸多领域已得到应用，但其制备工艺对薄膜光、电性能的影响机制尚未完全明晰。不同的制备工艺参数，如腔体气压、基底温度、氩气/氮气流量比和溅射电流等，会导致薄膜的微观结构、结晶取向、表面形貌等发生变化，进而显著影响其光、电性能。深入研究制备工艺与光、电性能之间的关系，对于优化氮化钛薄膜的性能、拓展其应用领域具有重要的现实意义。一方面，通过精确调控制备工艺，可以制备出具有特定光、电性能的氮化钛薄膜，满足不同领域对薄膜性能的多样化需求；另一方面，对这一关系的深入理解有助于推动薄膜制备技术的创新和发展，为相关产业的升级提供技术支持。因此，开展氮化钛薄膜制备及其光、电性能的研究具有重要的科学研究价值和实际应用价值。

1.2国内外研究现状

在氮化钛薄膜制备方法的研究上，国内外已取得了丰硕的成果。物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）是两大主要的制备方法。在PVD方法中，电子束蒸镀法利用电子束将能量传递给待蒸发材料使其熔化并蒸发，虽能提高镀膜纯度，但存在与基片结合较差、工艺重复性不好的问题，因此在实际应用中使用较少。溅射镀膜法，如直流磁控溅射和射频磁控溅射，因具有溅射率高、基片温升低、膜基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点而被广泛应用。其中，反应溅射方法因其独特优势最早且最多地被用于TiN薄膜制备，非平衡磁控溅射方法也是常用的溅射方法之一。然而，溅射镀膜法的沉积速率较低，成本相对较高，限制了其在一些对成本敏感领域的应用。电弧离子镀在制备高速钢和硬质合金工具的耐磨镀层以及不锈钢制品的仿金装饰镀层方面应用广泛，进入90年代后，成为氮化钛镀层工业的主要生产工艺，在沉积过程中，弧电流、衬底负偏压、衬底温度、氮气的分压、腔体压强等因素都会对涂层结构和性能产生影响。CVD法以气态氯化钛（TiCl4）为原材料，加入氢气以及氮气，经过还原反应、沉积反应制得成品，具有生产效率高、成品质量好等优势，但生产成本较高。

在氮化钛薄膜光性能的研究方面，国外学者通过第一性原理计算深入分析了TiN的能带结构和态密度，揭示了其光学性质的物理根源。研究发现，TiN的能带交叠以及N原子p轨道和Ti原子d轨道的杂化，使得其晶格中的Ti-N键兼具金属键、共价键和离子键的特征，这对其光学性能产生了重要影响。在表面等离子体共振方面，国外已开展了较多研究，探索了T