溅射过程中正负离子对ZnO_Al薄膜性能影响的多维度探究.docx

溅射过程中正负离子对ZnO:Al薄膜性能影响的多维度探究

一、引言

1.1ZnO:Al薄膜概述

ZnO:Al薄膜，即铝掺杂的氧化锌薄膜，作为一种极具潜力的透明导电氧化物（TCO）材料，在现代光电器件领域中占据着举足轻重的地位。ZnO本身是一种直接宽带隙半导体材料，室温下的禁带宽度约为3.37eV，激子束缚能高达60meV，具备良好的化学稳定性、机械稳定性以及压电特性。通过引入铝（Al）掺杂，ZnO:Al薄膜不仅保留了ZnO的固有优势，还展现出独特的电学和光学性能，使其成为众多光电器件的关键组成部分。

在结构上，ZnO属于六方晶系纤锌矿结构，其晶体结构中存在着两种不同