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无水环境下熔融石英玻璃固结磨粒抛光特性的深度剖析与应用研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学和光电子领域，熔融石英玻璃凭借其出色的光学均匀性、低膨胀系数以及良好的化学稳定性等特性，成为制造高功率激光器、光学望远镜、光刻系统等关键光学元件的理想材料。例如，在美国国家点火装置（NIF）、法国的“兆焦耳激光”工程（LMJ）以及中国神光激光聚变装置等高功率激光器中，熔融石英玻璃被广泛应用于制造窗口和屏蔽片，这些光学元件对于面型精度、表面粗糙度以及表面和亚表面质量有着极高的要求，通常面型精度峰谷（PV）需小于λ/3（λ=632.8nm），表面粗糙度均方根值（RMS）小于0.4nm，且表面和亚表面无瑕疵，以确保均匀的波前和最小的激光散射。

传统的游离磨粒抛光技术在光学玻璃加工中应用广泛，它主要利用比玻璃硬度低的稀土和金属氧化物，混合去离子水和一定的化学添加物，基于机械化学去除机理进行材料去除，从而获得无损伤的玻璃表面。然而，该技术存在诸多缺陷。游离磨粒在抛光过程中运动具有随机性，玻璃-磨粒-抛光垫在抛光溶液中存在复杂的物理和化学相互作用，这使得建立准确的材料去除模型变得极为困难，导致其无法成为一项确定性的抛光技术。游离磨粒抛光会在玻璃表面产生几纳米到几百纳米的水合层，水合层的机械化学性质与玻璃本体材料存在本质区别，这会降低玻璃的光学性能。抛光溶液不仅会造成环境污染，而且仅有少量磨粒参与材料去除，造成了大量的材料浪费。

为了克服游离磨粒抛光的这些问题，无水环境下的固结磨粒抛光技术应运而生。该技术通过将磨料固定在磨具中，实现磨粒的完全约束运动，有望提高磨料分布均匀性、材料去除效率与磨料利用率，并能避免水合层的产生和抛光溶液带来的环境污染问题。对无水环境下熔融石英玻璃固结磨粒抛光特性的研究，有助于深入理解该抛光过程的机理，为优化抛光工艺、提高抛光质量和效率提供理论依据，对于推动高功率激光器等领域的发展具有重要意义。

1.2国内外研究现状

国外对熔融石英玻璃抛光技术的研究起步较早，取得了一系列成果。美国Rochester大学的StehenD.Jacobs教授开发了氧化铈固结磨粒抛光技术，能在1小时内将熔融石英玻璃粗糙度均方根值从超过400nm降低到1.5nm。乌克兰的YuriD.Filatov学者利用簇模型对固结磨粒抛光片去除玻璃光学材料的机理展开研究，进一步阐述了固结磨粒抛光的去除机制。日本茨城大学的L.Zhou教授运用氧化铈固结磨粒抛光砂轮，成功实现了对单晶硅片的无缺陷加工。在此基础上，日本秋田县立大学的YonboWu教授和中国工程物理研究院激光聚变研究中心的YauoLi学者将二维椭圆超声振动辅助技术引入到熔融石英无水环境固结磨粒抛光加工过程，显著提升了材料去除率和表面质量。

国内在熔融石英玻璃抛光技术方面也有一定的研究，但对于固结磨粒抛光技术的研究相对较少，一个重要原因是固结磨粒抛光砂轮配方和烧结工艺不成熟，并且美国、日本和乌克兰等国家对这项技术进行了封锁。不过，国内一些研究团队在努力突破技术瓶颈，如厦门大学的研究团队实现了稳定的抛光砂轮配方和烧结工艺，并将自制的氧化铈固结磨粒抛光轮应用于熔融石英无水环境加工中，实验表明，相对于聚氨酯抛光垫游离磨粒抛光，固结磨粒抛光技术在表面面型精度和粗糙度收敛速度上具有显著优势，且抛光砂轮不破碎，磨损均匀。

目前的研究虽然在熔融石英玻璃固结磨粒抛光技术上取得了一定进展，但仍存在不足。对于固结磨粒抛光过程中的材料去除机理尚未完全明确，不同工艺参数对抛光质量和效率的影响规律还需进一步深入研究，抛光过程中的温度场、应力场分布等方面的研究也相对较少，这些都限制了该技术的进一步发展和应用。

1.3研究内容与方法

本研究旨在深入探究无水环境下熔融石英玻璃固结磨粒抛光特性，具体研究内容包括：对氧化铈固结砂轮的制造工艺进行深入研究和优化，确保其性能的稳定性和可靠性；通过对加工产物和抛光轮粉末进行EDS能谱分析和XRD衍射分析等微观分析手段，初步阐述固结磨粒抛光的去除机理；从宏观角度探索压力、转速等工艺参数对去除效率和表面粗糙度的影响规律。

在研究方法上，主要采用实验研究法，搭建无水环境下的熔融石英玻璃固结磨粒抛光实验平台，进行一系列的抛光实验，通过改变不同的工艺参数，获取相应的实验数据。运用微观分析方法，借助EDS能谱分析和XRD衍射分析等技术，对加工产物和抛光轮粉末进行分析，从微观层面揭示抛光过程中的物理和化学变化。采用宏观探索方法，对实验数据进行整理和分析，研究压力、转速等参数与去除效率和表面粗糙度之间的关系，总结出宏观的变化规律。

二、无水环境下熔融石英玻璃固结磨粒抛光技术概述

2.1熔融石英玻