宽禁带半导体材料ZnO与TiO₂:制备、特性及应用的深度探究.docxVIP

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  • 2025-10-17 发布于上海
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宽禁带半导体材料ZnO与TiO₂:制备、特性及应用的深度探究.docx

宽禁带半导体材料ZnO与TiO?:制备、特性及应用的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中,半导体材料作为电子信息产业的核心基础,发挥着举足轻重的作用。从日常使用的电子设备到高端的航空航天、能源领域,半导体材料的身影无处不在,其性能的优劣直接影响着相关技术的发展水平和应用范围。随着科技的不断进步,对半导体材料性能的要求也日益提高,传统的半导体材料逐渐难以满足现代科技发展的需求。宽禁带半导体材料应运而生,因其具有独特的物理性质和优异的性能,成为了半导体领域的研究热点。

宽禁带半导体材料是指禁带宽度大于2.0eV的半导体材料,与传统的硅(Si)、锗(Ge)等窄禁

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