聚酰亚胺_酞菁铜复合薄膜的制备工艺与可见光区性能关联探究.docxVIP

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聚酰亚胺/酞菁铜复合薄膜的制备工艺与可见光区性能关联探究

一、引言

1.1研究背景与意义

聚酰亚胺(Polyimide,PI)作为一种高性能聚合物材料,自问世以来便备受关注。其分子结构中含有稳定的芳杂环,这赋予了聚酰亚胺众多优异的性能。在耐热性方面,聚酰亚胺的玻璃化转变温度和熔点较高,长期使用温度可达250℃以上,部分品种热分解温度达600℃,能在高温环境下保持稳定的性能,在航空航天、汽车制造等对高温性能要求苛刻的领域得到广泛应用,例如航空发动机隔热材料、航天器热屏蔽膜的制造等。在机械性能上,聚酰亚胺强度高、韧性好,拉伸强度可达200-300MPa,弯曲强度为300-400MPa,远优于尼龙、聚碳酸酯等常见工程塑料,可用于制造需要承受较大应力的机械部件。其绝缘性能也十分出色,电阻率高,介电常数低,是电子电气领域理想的绝缘材料,常用于制备电子元件的绝缘层或支撑层,如电路板绝缘层。此外,聚酰亚胺还具备良好的化学稳定性,能抵抗大多数酸、碱和有机溶剂的侵蚀,以及尺寸稳定性好、低摩擦系数等优点。然而,聚酰亚胺也存在一些不足,如传统的聚酰亚胺不熔不溶,加工难度大,制成薄膜硬、脆、强度不好;用于微电子工业时,热膨胀系数不够理想;用于光通信工业,透明性差;粘接性也有待提高。

酞菁铜(CopperPhthalocyanine)是一种重要的有机金属化合物,属于酞菁类化合物。酞菁是由四个吡咯单元通过亚胺桥连成的共轭体系,酞菁铜则是酞菁环中心的两个氢原子被铜原子取代后的产物。酞菁铜具有独特的分子结构和电子特性,使其呈现出优异的光学性能。它在可见光区有强烈的吸收,最大吸收波长通常在600-700nm左右,这一特性使其在光敏染料、光伏材料以及有机光导体等领域具有潜在应用,如可作为有机太阳能电池中的光敏材料,提高对可见光的吸收和光电转换效率。同时,酞菁铜还具有良好的化学稳定性、热稳定性和耐光性,能够在不同环境条件下保持其结构和性能的稳定。

将聚酰亚胺与酞菁铜复合制备成聚酰亚胺/酞菁铜复合薄膜,有望综合两者的优势。聚酰亚胺的优异力学性能、热稳定性和化学稳定性为复合薄膜提供了良好的基体支撑,而酞菁铜的独特光学性能则赋予复合薄膜在可见光区的特殊性能,如光吸收、光催化等。这种复合薄膜在光学领域展现出重要的应用前景。在光电器件方面,可用于制造新型的光电探测器、发光二极管等,利用其在可见光区的光吸收和光电转换性能,提高器件的灵敏度和效率;在光学传感器领域,可基于复合薄膜对特定波长可见光的响应特性,开发用于检测气体、生物分子等的传感器;在光催化领域,复合薄膜可能具备催化降解有机污染物等功能,为环境治理提供新的材料选择。通过研究聚酰亚胺/酞菁铜复合薄膜的制备及其在可见光区的性能,不仅有助于深入理解两种材料复合后的协同效应和作用机制,还能为开发新型高性能光学材料提供理论基础和实验依据,推动光学领域的技术进步和创新。

1.2国内外研究现状

聚酰亚胺的研究历史较为悠久,美国杜邦公司早在1965年就开发成功聚酰亚胺Kapont薄膜和PyreML清漆,随后日本等国家也相继开展相关研究并取得重要成果,如日本Kaneka公司1983年开发了薄膜Apical,日本宇部兴产开发了Upilex系列薄膜和模塑料。我国于1962年开始聚酰亚胺的研究,1963年成功开发聚酰亚胺清漆,1966年薄膜、模塑料和胶粘剂相继开发成功,80年代中期开始产业化。近年来,聚酰亚胺的研究主要集中在新型单体的合成、结构与性能关系的深入探究以及改性方法的创新等方面,以克服其自身存在的缺点,拓展应用领域。

酞菁铜的研究也经历了较长时间的发展,其在颜料、染料等传统领域的应用已较为成熟,如用于油墨、涂料、塑料等的着色,利用其鲜艳的蓝色和良好的耐光、耐热性。随着材料科学的发展,酞菁铜在光电器件、催化等新兴领域的应用研究逐渐增多。

对于聚酰亚胺/酞菁铜复合薄膜的研究,国内外学者已开展了一系列工作。在制备方法方面,主要采用溶液共混法、原位聚合法等。溶液共混法是将聚酰亚胺和酞菁铜分别溶解在适当的溶剂中,然后混合均匀,通过流延、旋涂等方式成膜。该方法操作相对简单,但可能存在酞菁铜在聚酰亚胺基体中分散不均匀的问题。原位聚合法是在聚酰亚胺单体聚合的过程中加入酞菁铜,使其在聚酰亚胺形成的同时均匀分散在其中,可一定程度上改善分散性,但合成过程较为复杂。在性能研究方面,已有研究表明复合薄膜在热稳定性、机械性能等方面相比纯聚酰亚胺薄膜有一定提升,同时在可见光区表现出与酞菁铜相关的光学性能。然而,当前研究仍存在一些不足和空白。在制备工艺上,如何实现酞菁铜在聚酰亚胺基体中更均匀、稳定的分散,以及如何简化制备流程、降低成本,仍是需要解决的问题

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