飞秒激光调控硅片表面反射率的机制与应用研究.docx

飞秒激光调控硅片表面反射率的机制与应用研究

一、引言

1.1研究背景与意义

硅作为一种重要的半导体材料，凭借其储量丰富、易于提纯和加工、化学性质稳定等优势，在现代光电器件领域中占据着举足轻重的地位。从日常使用的电子设备，如手机、电脑中的芯片，到新能源领域的太阳能电池，再到通信领域的光探测器等，硅基光电器件无处不在，为人们的生活和社会发展提供了关键支持。然而，硅材料本身存在一些固有特性，限制了其在光电器件中的进一步应用与性能提升，其中较为突出的便是硅片表面的高反射率问题。

在光电器件的工作过程中，当光线入射到硅片表面时，由于硅的折射率较高，大部分光线会被反射回去，无法有效进入硅材料内部参与光