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近红外区高透过率ITO_AZO薄膜的制备工艺与性能优化研究.docxVIP

近红外区高透过率ITO_AZO薄膜的制备工艺与性能优化研究.docx

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    近红外区高透过率ITO/AZO薄膜的制备工艺与性能优化研究

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在现代光电器件的迅猛发展进程中，透明导电薄膜凭借其独特的光电特性，已然成为众多关键器件不可或缺的核心材料。氧化铟锡（ITO）薄膜和掺铝氧化锌（AZO）薄膜作为透明导电薄膜领域的典型代表，备受科研人员与产业界的高度关注。

    ITO薄膜是由90%的氧化铟（In?O?）和10%的氧化锡（SnO?）组成的无机复合材料，其具备卓越的电学性能，在400至700纳米的可见光范围内，具有85%至95%的透光率，同时还具备低至10??至10?3Ω?cm的电阻率，这使其在众多光电器件中扮

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