多道次ECAP工艺对纯铜晶粒细化及性能调控的深度剖析.docx

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2025-10-21 发布于上海
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多道次ECAP工艺对纯铜晶粒细化及性能调控的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业发展进程中，金属材料始终占据着极为关键的地位，是推动各领域技术进步与创新的重要物质基础。纯铜作为一种历史悠久且应用广泛的金属材料，凭借其一系列卓越的性能，在众多领域发挥着不可或缺的作用。在电子工业领域，由于其具有高达58.6MS/m的导电率，仅次于银，使得纯铜成为制造电线电缆、电子元器件等的首选材料，广泛应用于电力传输、信号传导等关键环节，为现代电子设备的稳定运行提供了坚实保障。据统计，全球电线电缆中约65%的导体由纯铜制成，充分彰显了其在电子工业中的重要地位。在机械制造领域，纯铜良好