基于衍射光栅的外差Littrow式精密位移测量系统关键技术剖析与实践.docx

基于衍射光栅的外差Littrow式精密位移测量系统关键技术剖析与实践

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代工业发展进程中，精密位移测量技术作为支撑先进制造、高端装备以及科学研究等众多领域发展的关键技术，发挥着举足轻重的作用。从芯片制造中光刻机的超精密定位，到航空航天领域飞行器零部件的高精度加工与装配，再到生物医学研究中微观尺度的操控与测量，精密位移测量技术的精度和可靠性直接决定了产品质量、系统性能以及研究成果的准确性。例如，在集成电路制造中，芯片特征尺寸不断缩小，对光刻机工作台的位移精度要求已达到纳米量级，微小的位移误差都可能导致芯片性能下降甚至报废，严重影响集成电路产业的发展。

外差