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光学光刻工艺中光强分布模拟的深度解析与实践应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体制造无疑是推动信息技术进步的核心力量。从日常使用的智能手机、电脑，到工业领域的高端设备，再到航空航天的精密仪器，半导体器件无处不在，其性能的优劣直接影响着这些设备的功能和效率。而在半导体制造的众多工艺中，光学光刻工艺占据着举足轻重的关键地位。

光学光刻工艺宛如一位精细的画师，它利用光的特性，将设计好的电路图案精确地转移到半导体材料表面的光刻胶上，如同在微小的画布上绘制出复杂而精妙的电路图。随着科技的不断进步，消费者对电子产品的性能要求日益苛刻，追求更小尺寸、更高性能的芯片成为半导