半导体行业专题:空白掩模版,光刻工艺核心原料,国产化亟待突破.docxVIP

半导体行业专题:空白掩模版,光刻工艺核心原料,国产化亟待突破.docx

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掩模版国产化是半导体自主可控的关键一步 3

掩模版是重要半导体原材料,技术壁垒高 3

半导体掩模版是核心材料之一,市场空间广阔 6

制程提升离不开掩模版的同步升级 8

空白掩模版是掩模版核心原材料 12

空白掩模版是掩模版的基础材料 12

空白掩模版生产难点多,技术壁垒高 13

空白掩模版市场被日系厂商垄断 15

空白掩模版国产化亟待突破 16

投资建议 19

行业投资建议 19

重点公司 19

风险提示 21

插图目录 22

表格目录 22

掩模版国产化是半导体自主可控的关键一步

掩模版是重要半导体原材料,技术壁垒高

掩模版(又称光罩、光掩模版)是半导体生产制造过程中不可或缺的材料。

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